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CVD管式爐爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu)

時(shí)間:2016-8-1閱讀:4646
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 CVD管式爐用途:
 
    CVD管式爐主要用途陶瓷、冶金、電子,、玻璃,、化工、機(jī)械,、耐火材料,、特種材料、建材,、高校,、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒,、陶瓷燒結(jié),、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理,、高溫氣氛燒結(jié),、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn),、真空退火等,。
 
CVD管式爐詳細(xì)介紹:
 
    1、CVD管式爐爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu),,雙層爐殼之間裝有風(fēng)機(jī),,可以快速升降溫,爐殼表面溫度低,。
 
    2,、爐管采用99高純剛玉管、兩端用不銹鋼304高真空法蘭密封,。
 
    3,、爐膛材料采用的進(jìn)口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成,節(jié)能50%,加熱元件采用硅鉬棒,。
 
    4,、電爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有PID調(diào)節(jié),、模糊控制,、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能,該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為1℃,,溫場穩(wěn)定度±5℃,,升溫速率1~20℃可任意設(shè)置。
 
    5,、真空度可以達(dá)到10Pa,,是高校、科研院所,、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié),、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn),、真空退火用的理想產(chǎn)品,。

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