氣氛壓力燒結(jié)爐的主要參數(shù)一般為2000℃和10MPa壓力以下,，由于其壓力較低導(dǎo)致設(shè)備結(jié)構(gòu)形式與HIP相比差異較大,，成本較低，因而在局部領(lǐng)域獲得了廣泛的應(yīng)用,，主要應(yīng)用于硬質(zhì)合金,、高比重合金、氮化硅,、氧化鋁,、氮化硼、碳碳復(fù)合材料等多種高新技術(shù)材料領(lǐng)域,。該設(shè)備可作常壓（或真空）燒結(jié),、氣氛壓力燒結(jié)和反應(yīng)燒結(jié)。

氣氛壓力燒結(jié)爐按照安裝方式可分為立式和和臥式,，按照大小可分為實驗室型,、工程型，能夠根據(jù)用戶特定需求進(jìn)行專門設(shè)計制造,。氣氛壓力燒結(jié)爐主要由主機(jī)系統(tǒng),、液壓系統(tǒng)、真空壓力系統(tǒng),、冷卻系統(tǒng),、加熱系統(tǒng),、電氣系統(tǒng)等構(gòu)成。

產(chǎn)品規(guī)格：立式：熱區(qū)直徑Φ100~1000mm,，熱區(qū)高度150~1500mm,，壓力10MPa。

臥式：截面尺寸□300~800mm,，熱區(qū)長度600~2500mm,，壓力10MPa。