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一,、紫外光清洗的工作原理：
光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì),，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波,，具有很高的能量,，當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí)，由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,，并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子,、游離態(tài)原子、受激分子和中子,，這就是所謂光敏作用,。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧,。臭氧對254nm波長的紫外光 同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,，臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,，物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面,，從而*清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。

清洗時(shí),，使基板治濕性向上,。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射,。玻璃基板所累積紫外線能量愈多,，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系,。

一般STN-LCD制作過程中,，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片制作過程中,，要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm),。在TFT-LCD制作過程中，除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外,，目前制程的主流是,，使用Excimer Lamp，其172nm波長紫外線的高反應(yīng)性質(zhì)對玻璃的清洗效率更好,。

二,、光清洗的特點(diǎn)： 
1、 是一種摳上磾方式,，可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥,。 
2,、可*清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。
3,、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題,。
4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率,。
5,、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致。
6,、由于光清洗是通過光敏,、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法,，只適對表面污垢清洗,、不適對污垢量較多，無機(jī)類污垢清洗,。

三,、光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍：
主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片,、集成電路,、高精度印制電路板、光學(xué)器件,、石英晶體,、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法zui為合適,。
主要材料：ITO玻璃,、光學(xué)玻璃、鉻板,、掩膜板,、拋光石英晶體、硅晶片和 帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理,。
可以去除污垢：有機(jī)性污垢,、人體皮脂、化妝品油脂,、樹脂添加劑及聚酰亞胺,、石蠟、松香,、潤滑油,、殘余的光刻膠等,。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點(diǎn),，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中，主要是用在膜處理技術(shù)上，對于改善膜與膜之間的密接是非常有效的,，如ITO膜與感光膠膜層,，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品,，用于納米技術(shù)研究,，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變,。STN-LCD,、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同,，差別在于制造工藝要求的不同,。隨著線路的精細(xì)化及產(chǎn)品的彩色比，LCD產(chǎn)業(yè)對制造工藝的要求也不斷地提升,，而有"工欲善其事,，必先利其器"之需求，因此只有設(shè)備能力不斷地精進(jìn),，才能提高生產(chǎn)的質(zhì)量與效率,。