強大的軟件功能：

界面友好,，操作簡便,，用戶點擊幾下鼠標就可以完成測量。便捷快速的保存,、讀取測量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強大,，可同時測量多達四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù),。材料庫中包含了大量常規(guī)的材的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù),。用戶可以非常方便地自行擴充材料數(shù)據(jù)庫。

產(chǎn)品功能適用性：

該儀器適用于多種介質(zhì),，半導(dǎo)體,，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。

典型的薄膜材料為：

SiO2,、CaF2,、MgF2、光刻膠,、多晶硅,、非晶硅、SiNx,、TiO2,、聚酰亞胺、高分子膜,。

典型的基底材料為：

SiGe,、GaAs、ZnS,、ZnSe、鋁丙烯酸,、藍寶石,、玻璃、聚碳酸酯,、聚合物,、石英。

儀器具有開放性設(shè)計,，儀器的光纖探頭可很方便地取出,，通過儀器附帶的光纖適配器（如圖所示）連接到帶C-mount的顯微鏡（顯微鏡需另配），就可以使本測量儀適用于微區(qū)（>10μm,，與顯微鏡放大率有關(guān)）薄膜厚度的測量,。

技術(shù)指標：