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專為去除SEM & TEM樣品的碳?xì)湮廴径O(shè)計(jì),。*的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴(yán)重污染的電子光學(xué)孔徑光闌到各種脆弱易損樣品,，如石墨烯、碳納米管,、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網(wǎng)上的TEM樣品,。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標(biāo)準(zhǔn)SEM樣品托。

特點(diǎn)：

1. 系統(tǒng)具有雙等離子源,。浸入式等離子源用于主動(dòng)表面處理,、光刻膠蝕刻。遠(yuǎn)程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化

2. 13.56MHz高頻射頻發(fā)生器

3. 7英寸觸摸屏控制界面,，全自動(dòng)操作

4. 標(biāo)配75W版本,，可選150W版本

5. 標(biāo)配2路氣體輸入，可選第三路氣體輸入

6. 可選與FEI,、JEOL,、HITACHI等TEM樣品桿配套的適配器

7. AC輸入：通用(110~230V, 50/60Hz)

三、技術(shù)參數(shù)

1,、控制系統(tǒng)

1）操作界面：7英寸電阻觸摸屏操作界面,，支持多種工作方式,。

2）程序控制：可編程，總共有20個(gè)程序,，每個(gè)程序有3個(gè)清潔步驟

2,、反應(yīng)腔體

1）腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙。

2）腔體尺寸：內(nèi)徑110毫米,，外徑120毫米,，深度280毫米，壁厚：5毫米,。

3）前觀測(cè)窗：前方開口,，5毫米厚石英玻璃可視窗口，可觀測(cè)內(nèi)腔等離子狀態(tài),，并帶有防真空泄漏和避免高壓的聯(lián)鎖裝置,，有效保護(hù)操作的安全性；

3,、射頻電源

1）射頻頻率：13.56MHz

2）射頻功率：標(biāo)配0~75W,；可選配0~150W。從0瓦到150瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào),，自動(dòng)阻抗匹配,。

3）射頻輸出可以工作在脈沖方式，脈沖比可以從1/255調(diào)到255/255（連續(xù)輸出）,。

4,、等離子源

1）等離子強(qiáng)度探測(cè)器實(shí)時(shí)測(cè)量等離子源強(qiáng)度。

2）電阻耦合電離方式,。

3）外置電極設(shè)計(jì),，高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。

5,、氣體控制

1）氣路控制：標(biāo)配一路MFC,；可選配三路MFC；

2）質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間控制氣體流量,；

3）一路(Venting and purging)氣體入口用來快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體,。

4）自動(dòng)放氣流程控制可以保護(hù)真空泵不受影響。

5）高性能氣壓計(jì)可以測(cè)量1e-4 Torr到大氣壓之間的氣壓,。

6）6mm氣體接口,。

6、真空系統(tǒng)

1）KF25法蘭接口用來連接真空泵,。

2）真空要求：抽速：>1.7m3/h,；

3）低氣壓：<=200mTorr.