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美國PIE Scientific專注研發(fā)*實驗室用等離子儀器，用于SEM/TEM樣品清潔,、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積,、表面處理與活化,。我們的宗旨是：將半導(dǎo)體和核工程研究中開發(fā)的等離子技術(shù)集成到經(jīng)濟實用的實驗室用等離子儀器。

污染物對電子顯微鏡SEM/TEM和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響

潤滑劑,、真空脂,、泵油樣品中的高分子聚合物，或未經(jīng)處理的空氣都會把碳氫污染物引到真空系統(tǒng)中,。低蒸汽壓下高分子重污染物會凝聚在樣品表面和腔室壁上,，而使用普通氣體吹掃方法很難把碳氫污染物清除。

電子和高能光子(EUV, X-ray)能夠分解存在于真空系統(tǒng)中或樣品上的碳氫污染物,。碳氫化合物的分解產(chǎn)物沉積在被觀測的樣品表面或電子光學部件上,。這種碳氫污染沉積會降低EUV的鏡面反射率，降低SEM圖像對比度和分辨率,，造成錯誤的表面分析結(jié)果,，沉積在光闌或其它電子組件的不導(dǎo)電碳氫污染物甚至會造成電子束位置或聚焦緩慢漂移。在ALD系統(tǒng)中,，樣品表面的碳氫污染物還會降低薄膜的界面匹配質(zhì)量,。

特點：

1. 系統(tǒng)具有雙等離子源,。浸入式等離子源用于主動表面處理、光刻膠蝕刻,。遠程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化

2. 13.56MHz高頻射頻發(fā)生器

3. 7英寸觸摸屏控制界面,，全自動操作

4. 標配75W版本，可選150W版本

5. 標配2路氣體輸入,，可選第三路氣體輸入

6. 可選與FEI,、JEOL、HITACHI等TEM樣品桿配套的適配器

7. AC輸入：通用(110~230V, 50/60Hz)

除了Tergeo EM型SEM & TEM樣品清潔等離子清潔儀,，另有Tergeo Basic基本型等離子清潔儀和Tergeo Plus型大腔室等離子清潔儀

三,、技術(shù)參數(shù)

1、控制系統(tǒng)

1）操作界面：7英寸電阻觸摸屏操作界面,，支持多種工作方式,。

2）程序控制：可編程，總共有20個程序,，每個程序有3個清潔步驟

2,、反應(yīng)腔體

1）腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙。

2）腔體尺寸：內(nèi)徑110毫米,，外徑120毫米,，深度280毫米，壁厚：5毫米,。

3）前觀測窗：前方開口,，5毫米厚石英玻璃可視窗口，可觀測內(nèi)腔等離子狀態(tài),，并帶有防真空泄漏和避免高壓的聯(lián)鎖裝置,，有效保護操作的安全性；

3,、射頻電源

1）射頻頻率：13.56MHz

2）射頻功率：標配0~75W,；可選配0~150W。從0瓦到150瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào),，自動阻抗匹配,。

3）射頻輸出可以工作在脈沖方式，脈沖比可以從1/255調(diào)到255/255（連續(xù)輸出）,。

4,、等離子源

1）等離子強度探測器實時測量等離子源強度。

2）電阻耦合電離方式,。

3）外置電極設(shè)計,，高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。

5,、氣體控制

1）氣路控制：標配一路MFC,；可選配三路MFC,；

2）質(zhì)量流量計可以在0~100sccm之間控制氣體流量；

3）一路(Venting and purging)氣體入口用來快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體,。

4）自動放氣流程控制可以保護真空泵不受影響,。

5）高性能氣壓計可以測量1e-4 Torr到大氣壓之間的氣壓。

6）6mm氣體接口,。

6,、真空系統(tǒng)

1）KF25法蘭接口用來連接真空泵。

2）真空要求：抽速：>1.7m3/h,；

3）低氣壓：<=200mTorr.