硅片擴(kuò)散超聲波清洗機(jī)的擴(kuò)散方式主要圍繞其清洗過程進(jìn)行,。
清洗原理：
利用超聲波的振動能量和清洗劑的作用，高效地去除硅片表面的污垢,、油脂,、氧化物等雜質(zhì)。
超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振動,，通過清洗槽傳遞到清洗液中，形成“空化效應(yīng)”,，將硅片表面的污垢擊碎并分散到清洗液中,。
清洗流程：
將待清洗的硅片放入清洗機(jī)中。
加入適量的清洗液,，如去離子水,、有機(jī)堿、Q325-B清洗劑,、活性劑等,。
啟動超聲波發(fā)生器，使清洗液產(chǎn)生振動,。
清洗過程中,，清洗液中的微小氣泡會附著在硅片表面,，并隨著超聲波的振動而產(chǎn)生沖擊力，幫助剝離硅片表面的污垢和雜質(zhì),。
經(jīng)過一定時間的清洗后,，硅片表面的污垢和雜質(zhì)會被剝離并分散在清洗液中。
通過清洗液的循環(huán)流動,，將剝離的污垢和雜質(zhì)排出清洗機(jī),。
取出清洗完成的硅片，完成整個清洗過程,。
清洗方式選擇：
硅片擴(kuò)散超聲波清洗機(jī)提供了多種清洗方式,，包括但不限于純水清洗、膽堿清洗,、冷熱純水沖洗,、酸洗（如HF酸洗）等。這些清洗方式可以根據(jù)硅片表面的污垢種類和清洗要求進(jìn)行選擇,。
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