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硅片超聲波清洗機(jī)的清洗原理

閱讀:1253      發(fā)布時(shí)間:2024-3-28
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硅片超聲波清洗機(jī)的清洗原理主要依賴于超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用,。具體來說,,清洗機(jī)將電能轉(zhuǎn)化為機(jī)械能,使清洗槽中的液體產(chǎn)生高頻振動(dòng),,形成聲波,。當(dāng)聲波作用于硅片表面時(shí),會(huì)在其表面形成微小的氣泡并迅速破裂,,從而產(chǎn)生強(qiáng)大的沖擊力,,將硅片表面的污垢和雜質(zhì)剝離并分散在清洗液中。
這些氣泡在液體中振動(dòng)并快速崩潰,,產(chǎn)生微小的擦洗動(dòng)作,,從而去除硅片表面的顆粒。這一過程稱為空化作用,,它有助于將污物層分散,、乳化、剝離,,達(dá)到清洗的目的,。
此外,超聲波清洗機(jī)還包括超聲波發(fā)生器,、清洗槽,、輸送帶、過濾器,、回收系統(tǒng)等部分,。超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振動(dòng),通過清洗槽傳遞到清洗液中,。輸送帶將硅片逐一輸送到清洗槽內(nèi),,而過濾器則用于過濾掉清洗液中的雜質(zhì)?;厥障到y(tǒng)可以將清洗液循環(huán)使用,,減少浪費(fèi),。
注意的是,使用超聲波清洗機(jī)前需要對硅片表面進(jìn)行預(yù)處理,,如去除表面的油脂和松散物質(zhì),以確保清洗效果,。此外,,該清洗機(jī)不僅適用于硅片,還可用于清洗光學(xué)設(shè)備,、塑料殘留物等其他材料,,具有廣泛的應(yīng)用范圍。

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