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當前位置：寧波旗辰儀器有限公司>>技術文章>>氯化物鍍鋅層表面粗糙度的影響因素及其控制
鍍鋅層具有良好的裝飾性和防護性,，在儀器儀表,、電子電器、機械和船舶等領域有著廣闊的應用空間。鍍層表面粗糙度不僅反映鍍層外觀質(zhì)量的好壞,，還直接影響鍍層的性能,。
電流密度對鍍層表面粗糙度的影響
在鍍液溫度50℃，鍍液pH值5的條件下,，研究電流密度對鍍層表面粗糙度的影響,。電流密度對鍍層表面粗糙度有明顯影響;隨著電流密度由1 A/dm2提高至9 A/dm2，鍍層表面粗糙度呈近似線性關系增大,，由1.344 μm增至1.600 μm,。不同電流密度下所得鍍層的表面形貌和三維形貌，分別如圖2和圖3所示,。當電流密度為3 A/dm2時,，析氫過電位低且沉積速率慢，電極反應所消耗掉的金屬離子能及時得到補給,，因而氫氣的產(chǎn)生量小,，鍍層表面的針孔、積瘤等缺陷少,，表面相對較平整;當電流密度為9 A/dm2時,，盡管陰極過電位增大，有助于細化晶粒,，但此時電極過程液相傳質(zhì)受限的可能性變大,，出現(xiàn)少量氫氣被晶粒包裹的情況，導致鍍層表面形成針孔,、積瘤等缺陷,，造成鍍層表面粗糙度增大。由此可知,，要獲得表面較平整的鍍層,，應采用低電流密度。表面粗糙度可用表面粗糙度儀進行快速測量,。
鍍液溫度對鍍層表面粗糙度的影響
在電流密度1A/dm2,，鍍液pH值5的條件下，研究鍍液溫度對鍍層表面粗糙度的影響,。鍍液溫度對鍍層表面粗糙度有一定影響;隨著鍍液溫度從30℃升高至50℃,，鍍層表面粗糙度由1. 584 μm降至1.344μm。不同鍍液溫度下所得鍍層的表面形貌,，如圖5所示,。由圖5可知：當鍍液溫度為30℃時，鍍液的分散能力及離子活性差,，沉積速率較慢,，加之陰極電流效率低,，故所得鍍層表面灰暗且粗糙;當鍍液溫度為50℃時，傳質(zhì)效果改善,，沉積速率加快,，同時副反應發(fā)生的可能性降低,，此時鍍層較為平整,。由此可知，提高鍍液溫度有利于獲得平整的鍍層,。
鍍液pH值對鍍層表面粗糙度的影響
在電流密度1 A/dm2,，鍍液溫度50℃的條件下，研究鍍液pH值對鍍層表面粗糙度的影響,。隨著鍍液pH值的增大,，鍍層表面粗糙度呈先降低后升高的變化趨勢。其原因為：鍍液pH值較低時,，H+容易在陰極表面放電析出,，導致針孔、積瘤等缺陷形成的可能性提高,，鍍層表面凹凸不平;隨著鍍液pH值的增大,，陰極電流效率提高，析氫反應所消耗掉的電量降低,，因而鍍層缺陷減少,，表面狀況改善;當鍍液pH值增大到一定程度后，由于陰極周圍H+的濃度降低,，可能形成少量金屬氫氧化物或堿式鹽夾雜于鍍層中,，使得鍍層的整平性降低。
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