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批量晶圓等離子體清洗機采用pvatepla等離子體清洗和等離子體去膠技術(shù),其中GIGAbatch 310M是最小的批量晶圓等離子體處理機,非常適合實驗室和大學(xué)使用。
批量晶圓等離子體清洗機特點
桌面版的基本結(jié)構(gòu),；
為第二個氣體管道提供空間
腔室可容納多達25個直徑為150 mm的晶圓,，
可以作為石英舟中的一批晶圓,，也可以作為帶有特殊加載裝置的單一基板
各種配件可供個人配置
等離子體發(fā)射功率高達600W
批量晶圓等離子體清洗機原理
等離子體處理系統(tǒng)都遵循相同的等離子體產(chǎn)生原理：直接耦合真空室中大氣側(cè)的高頻激勵。進氣口位于腔室的一側(cè),，真空吸盤位于腔室的另一側(cè),。這種腔室?guī)缀谓Y(jié)構(gòu)實現(xiàn)了特別一致的工藝結(jié)果。
批量晶圓等離子體清洗機使用新一代處理器,、基于Linux的平臺作為操作系統(tǒng),，以及圖形用戶界面（GUI）。因此,，可以手動和全自動控制工藝,，并通過MFC控制工藝氣體。在這個過程中,，所有參數(shù)都會寫入配方并存儲在數(shù)據(jù)庫中,。同時，壓力,、氣體流量,、輸出等的當(dāng)前值顯示在顯示屏上，如果偏離目標(biāo)值,，則會觸發(fā)相應(yīng)的警報,。