目錄:孚光精儀(中國)有限公司>>光學(xué)測量系列>>晶圓測試儀器>> FPONT-Imperia晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池 |
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)Imperia系統(tǒng)可檢測并分類晶圓缺陷,實(shí)現(xiàn)光致發(fā)光(PL)生產(chǎn)監(jiān)控,。
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)將這兩個(gè)外延后計(jì)量篩選功能組合到一個(gè)高通量系統(tǒng)中,,可最大限度地減少寶貴的晶圓廠空間使用和盒處理時(shí)間。該產(chǎn)品可為用戶提供顯著的經(jīng)濟(jì)節(jié)約(例如:準(zhǔn)確預(yù)測MOCVD反應(yīng)器產(chǎn)量和PM計(jì)劃),。
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)特點(diǎn)
高密度光譜光致發(fā)光PL映射
晶圓缺陷分析和分類
高分辨率外延層厚度和歸一化反射率成像
晶圓形狀輪廓和三維翹曲重建
高密度光譜PL映射:裸晶片和圖案化晶片上的峰值λ、峰值強(qiáng)度,、半高寬和其他光子學(xué)相關(guān)參數(shù)
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)