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晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)Imperia系統(tǒng)可檢測并分類晶圓缺陷,實現(xiàn)光致發(fā)光（PL）生產(chǎn)監(jiān)控,。
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)將這兩個外延后計量篩選功能組合到一個高通量系統(tǒng)中，可最大限度地減少寶貴的晶圓廠空間使用和盒處理時間,。該產(chǎn)品可為用戶提供顯著的經(jīng)濟節(jié)約（例如：準確預測MOCVD反應(yīng)器產(chǎn)量和PM計劃）,。
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)特點
高密度光譜光致發(fā)光PL映射
晶圓缺陷分析和分類
高分辨率外延層厚度和歸一化反射率成像
晶圓形狀輪廓和三維翹曲重建

高密度光譜PL映射：裸晶片和圖案化晶片上的峰值λ、峰值強度,、半高寬和其他光子學相關(guān)參數(shù)