目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>光學(xué)精密儀器>> FPULT-CES124晶圓蝕刻清洗機CES是ULTRA晶圓shi刻清潔系統(tǒng)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,綜合 |
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晶圓蝕刻清洗機CES是ULTRA晶圓蝕刻清潔系統(tǒng),滿足晶片,、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求,。
晶圓蝕刻清洗機CESx124,、126,、128或133非常適合蝕刻和清潔從小直徑到超大直徑的各種尺寸的晶片,、光掩模和基板,。晶圓蝕刻清洗機CESx可配置多個過程分配選項,，從用于DI-H2O或化學(xué)的Megasonic噴嘴；用于化學(xué)配藥的低壓噴嘴,；化學(xué)和DI-H2O加熱器,；用于表面攪拌以加速反應(yīng)的刷子和/或DI-H2O；還有更多,。
晶圓蝕刻清洗機可編程拋物線臂運動有助于確保均勻蝕刻,。快速有效的干燥技術(shù)結(jié)合了可變的旋轉(zhuǎn)速度,；可選加熱的DI-H2O,；和氮輔助。該晶圓蝕刻清洗機非常安全,，具有“沖洗至pH"功能,，可在接觸基質(zhì)之前去除腔室內(nèi)的任何化學(xué)物質(zhì)。
適合直徑不超過9x9英寸/300mm直徑的基片
•具有無刷伺服電機的主軸組件用于精確的速度控制和分度,。
•擺動式分配臂,，速度可調(diào)&行程位置&可編程拋物線行程。
•徑向排氣室,，最大層流在蓋的頂部與N2進料一起流動,。
•用于清潔和干燥輔助的DI-H2O加熱器。
•微處理器控制,，能夠保持三十（30）個食譜在內(nèi)存中有三十（30）個步驟,。
•用清水沖洗至整個工藝區(qū)域和基材的pH值聯(lián)鎖裝置禁止進入工藝區(qū)和控制區(qū)排水和主軸速度，直到安全,。
•按鈕蓋打開/關(guān)閉,。
•觸摸屏圖形用戶界面（GUI），易于操作帶有屏幕錯誤的編程和安全鎖定報告,。
•用于化學(xué)品和室內(nèi)排水的排水分流器,。
•設(shè)計符合SEMI S2/S8指南，占地面積小,，寬28英寸,，深24英寸，包括：集成式DI H2O加熱器,；化學(xué)品儲存二級安全殼,。面向所有人的前臺服務(wù)訪問組件,。尺寸不包括后面板設(shè)施和連接
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