目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>激光光學(xué)類>>激光配件系列>> FPSTA-Extra-UV Mirrors同步輻射反射鏡,極紫外反射jing
| 供貨周期 | 一個月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣 |
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同步輻射反射鏡是專業(yè)為同步輻射應(yīng)用設(shè)計的同步輻射鏡和極紫外反射鏡,。
同步輻射和極紫外光學(xué)是當(dāng)今科學(xué)和工業(yè)的jian duan技術(shù),由于涉及到超級小的波長和超高真空腔體,同步輻射設(shè)備儀器往往涉及原子尺寸的研究,因為,對于同步輻射反射鏡的要求很高,。
同步輻射反射鏡采用表面誤差定義掠入射光學(xué)性能,定義實際鏡片與理想鏡片表面的最大PV偏離和和平均RMS偏離,。由于聚焦光學(xué)鏡片質(zhì)量和掠入射光學(xué)鏡片質(zhì)量由鏡片斜分布決定,通常采用RMS誤差斜率定義鏡片表面精度,。通常誤差斜率范圍從0.5arcsec/rms(平面）到1arcsec/rms(球面）,。
同步輻射反射鏡表面結(jié)構(gòu)
平面-可獲得誤差斜率
球面和柱面-較好的斜率誤差
環(huán)面,橢圓/拋物線圓柱,橢圓環(huán)面-一般的誤差斜率
橢球(旋轉(zhuǎn)),拋物面,雙曲面,自由曲面-一般的誤差斜率
同步輻射反射鏡鏡片材質(zhì)
低同步輻射通量：微晶玻璃,Sitall CO-115M,熔融石英FS, 零膨脹玻璃ULE,光學(xué)玻璃（派萊克斯玻璃,，BK7)
高同步輻射通量：單晶硅,碳化硅CVD,銅化學(xué)鍍鎳,，鋁化學(xué)鍍鎳
同步輻射反射鏡鏡片鍍膜
同步輻射反射鏡鏡片鍍膜材料通常有Au, Pt, Rh, Ni, Pd, Al, Si, C, Ru, SiO2, Al/MgF
| Platinum | Gold Standard EUV (Au_40 nm / Cr_binder) | Nickel |
| R~ 55 - 58 % @ 200 nm - 65 nm | R ~ 55 - 58 % @ 200 nm - 65 nm | R~ 60 - 68 % @ 200 nm - 120 nm |
| R~ 60 - 69 % @ 65 nm - 27 nm | R ~ 55 - 65 % @ 65 nm - 25 nm | R~ 56 - 60 % @ 120 nm - 40 nm |
| R~ 55 - 60 % @ 27 nm - 22 nm | R~ 60 - 70 % @ 41 nm - 30 nm | |
| R ~ 60 - 65 % @ 22 nm - 12 nm | R~ 61 - 70 % @ 25 nm - 15 nm | R~ 30 - 60 % @ 30 nm - 20 nm |
| R ~ 50 - 55 % @ 12 nm - 10 nm | R~ 70 - 71 % @ 15 nm - 9 nm | R ~ 30 - 40 % @ 20 nm - 16 nm |
圖示：膜厚度在1埃時的反射率和能量帶寬,特定入射角的Au, Be and C鍍膜高能截止曲線.
同步輻射反射鏡是專業(yè)為同步輻射應(yīng)用設(shè)計的同步輻射鏡和極紫外反射鏡。
同步輻射和極紫外光學(xué)是當(dāng)今科學(xué)和工業(yè)的jian duan技術(shù),由于涉及到超級小的波長和超高真空腔體,同步輻射設(shè)備儀器往往涉及原子尺寸的研究,因為,對于同步輻射反射鏡的要求很高,。
同步輻射反射鏡采用表面誤差定義掠入射光學(xué)性能,定義實際鏡片與理想鏡片表面的最大PV偏離和和平均RMS偏離,。由于聚焦光學(xué)鏡片質(zhì)量和掠入射光學(xué)鏡片質(zhì)量由鏡片斜分布決定,通常采用RMS誤差斜率定義鏡片表面精度。通常誤差斜率范圍從0.5arcsec/rms(平面）到1arcsec/rms(球面）,。
同步輻射反射鏡表面結(jié)構(gòu)
平面-可獲得誤差斜率
球面和柱面-較好的斜率誤差
環(huán)面,橢圓/拋物線圓柱,橢圓環(huán)面-一般的誤差斜率
橢球(旋轉(zhuǎn)),拋物面,雙曲面,自由曲面-一般的誤差斜率
同步輻射反射鏡鏡片材質(zhì)
低同步輻射通量：微晶玻璃,Sitall CO-115M,熔融石英FS, 零膨脹玻璃ULE,光學(xué)玻璃（派萊克斯玻璃,，BK7)
高同步輻射通量：單晶硅,碳化硅CVD,銅化學(xué)鍍鎳，鋁化學(xué)鍍鎳
同步輻射反射鏡鏡片鍍膜
同步輻射反射鏡鏡片鍍膜材料通常有Au, Pt, Rh, Ni, Pd, Al, Si, C, Ru, SiO2, Al/MgF
| Platinum | Gold Standard EUV (Au_40 nm / Cr_binder) | Nickel |
| R~ 55 - 58 % @ 200 nm - 65 nm | R ~ 55 - 58 % @ 200 nm - 65 nm | R~ 60 - 68 % @ 200 nm - 120 nm |
| R~ 60 - 69 % @ 65 nm - 27 nm | R ~ 55 - 65 % @ 65 nm - 25 nm | R~ 56 - 60 % @ 120 nm - 40 nm |
| R~ 55 - 60 % @ 27 nm - 22 nm | R~ 60 - 70 % @ 41 nm - 30 nm | |
| R ~ 60 - 65 % @ 22 nm - 12 nm | R~ 61 - 70 % @ 25 nm - 15 nm | R~ 30 - 60 % @ 30 nm - 20 nm |
| R ~ 50 - 55 % @ 12 nm - 10 nm | R~ 70 - 71 % @ 15 nm - 9 nm | R ~ 30 - 40 % @ 20 nm - 16 nm |
圖示：膜厚度在1埃時的反射率和能量帶寬,特定入射角的Au, Be and C鍍膜高能截止曲線.
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