目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>激光微納加工系統(tǒng)>>飛秒激光光刻機系統(tǒng)>> FPKLOE-Dilase750多波長激光直寫光刻機
多波長激光直寫光刻機是的多波長激光光刻機，它提供325nm,375nm,405nm,445nm紫外光源對光刻膠直寫或紫外敏感膠直接刻劃獲得微納結構,，直寫面積高達12英寸,，zui小特征尺寸（寬度）可達1微米，適合掩膜,，半導體,，玻璃，晶體,，薄膜等諸多襯底,。
多波長激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式,，確保直接軌跡偏離小于100nm。微型激光直寫光刻機具有電動光學聚焦系統(tǒng),，提供快速精準的聚焦功能,，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配,，增強清潔程度,，提高工作量和用戶安全程度。
兼容大多數商用光刻膠,，比如SU8,，shipley, AZ等，我們還對K-CL膠特別優(yōu)化,，用于微結構應用,。
多波長激光直寫光刻機特色
非常緊湊的桌面型設計
掩膜制作和激光直寫
激光光源375nm 或405nm 任選
兼容所有商用光刻膠
對比度高達1x20
自動聚焦
豎直直寫或掃描直寫模式
多波長激光直寫光刻機參數
直線直寫速度：高達350mm/s
位移臺分辨率：100nm
重復精度：100nm
晶圓直寫面積：1-12英寸
襯底厚度：250um-10mm
激光光斑大小：0.5um-100um
標準準直精度：500nm
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