目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>激光微納加工系統(tǒng)>>紫外曝光機>> FPKLOE-UV-KUB6紫外掩膜曝光系統(tǒng)
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,電子/電池 |
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這款紫外掩膜曝光系統(tǒng)是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光機和LED掩膜曝光機，是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置,，它提供標準的365nm紫外線,可適用6英寸晶圓,，兼容硬接觸和軟接觸過程，并具有可變掩膜和襯底距離控制功能,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)適合光學,，生物科技，微電子,，晶圓鍵合,，固化，細胞培養(yǎng)等多種應用,，廣泛用于紫外曝光固化,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)是*單色紫外發(fā)射，具有35mW/cm^2的功率密度,，在6英寸的面積上光源均勻度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光機,。
這套紫外掩膜曝光系統(tǒng)采用了的LED光源技術(shù)，*實現(xiàn)單波長紫外冷光源照明,，有效消除熱效應,，非常適合實驗室或超凈間的紫外曝光使用。
結(jié)構(gòu)緊湊,，方便移動,，采用觸摸屏控制操作，*有效安全控制自我曝光室,。
的LED紫外光源壽命高達1萬小時，非?？煽慷陀?，*，非常方便使用,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)特點
非常緊湊,，桌上使用設計
*的紫外單色LED冷光源
zui大工作面積為4英寸晶圓
適合所有光刻膠
分辨率：2微米
無需預熱，直接開機使用
實時溫度控制功能確保均勻曝光
紫外照明功率強度可調(diào)
可單次曝光或連續(xù)曝光
適合光學,，生物科技,，微電子,，晶圓鍵合，固化,，細胞培養(yǎng)等多種應用
紫外掩膜曝光系統(tǒng)參數(shù)
波長：365nm
功率密度：40mW/cm^2
曝光過程中襯底溫度上升：<1攝氏度
曝光時間：1秒到18小時
可編程控制循環(huán)：10個
分辨率：2微米
外部尺寸：260x 260x260mm
重量：8.2kg
彩色觸摸屏：5.7英寸
供電要求：230V
用電功耗：200W
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