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日立分析儀器(上海)有限公司

一文帶你走過(guò)X射線熒光光譜三十年歷程

時(shí)間:2020-10-26 閱讀:1133
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  X射線熒光光譜分析的發(fā)展概述
 
  20世紀(jì)80年代初期,,商品X射線熒光光譜儀主要有波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀(WDXRF),、能量色散X射線熒光光譜儀(EDXRF)和以正比計(jì)數(shù)器為探測(cè)器的可攜式X射線熒光光譜儀(PXRF),。WDXRF譜儀的送樣系統(tǒng)和參數(shù)的設(shè)置已高度自動(dòng)化,,用戶根據(jù)待分析試樣的組成購(gòu)買理論α系數(shù)表,,用于校正基體中元素間的吸收增強(qiáng)效應(yīng),,將測(cè)得的強(qiáng)度轉(zhuǎn)為濃度,,并獲得與化學(xué)分析結(jié)果相當(dāng)?shù)臏?zhǔn)確度。因此,,在1983年Kikkert認(rèn)為XRF分析是一種成熟的分析方法,。然而迄今30年來(lái)由于微電子學(xué)、計(jì)算機(jī)科學(xué),、核科學(xué)和材料學(xué)的迅猛發(fā)展,,為XRF分析新的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)的物質(zhì)基礎(chǔ),同時(shí)又成為XRF分析學(xué)科的發(fā)展動(dòng)力,,其中微XRF分析,、全反射、用于現(xiàn)場(chǎng)分析和原位分析的可攜式和手持式譜儀應(yīng)運(yùn)而生,,呈現(xiàn)出逢勃發(fā)展的態(tài)勢(shì),。即使WDXRF分析,無(wú)論從譜儀本身還是分析方法的建立和應(yīng)用,,也己與30年前不可同日而語(yǔ),。
 
  以2011年為例,West等收集了2010年4月至2011年3月期間的547篇文獻(xiàn),,以儀器和應(yīng)用兩大類予以評(píng)述,,將儀器及性能部分按照通用儀器、激發(fā)源,、探測(cè)器,、試樣分析、基體校正和計(jì)算方法,、X射線光透鏡和微束X射線熒光光譜(μ-XRF),、SRXRF、全反射XRF,、手持式和可移動(dòng)式XRF,、在線XRF等進(jìn)行介紹。應(yīng)用領(lǐng)域的評(píng)述涉及樣品制備和預(yù)濃縮技術(shù),、地質(zhì),、工業(yè)材料、環(huán)境監(jiān)測(cè),、氣溶膠和顆粒,、工業(yè)行為的影響,、考古、文化遺產(chǎn)及識(shí)別,、工業(yè),、臨床、藥物,、生物,、薄膜、涂層和納米級(jí)材料,、化學(xué)態(tài)和物種形成,。自世紀(jì)起該期刊的評(píng)述內(nèi)容的格局基本一致,由此可見XRF技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用領(lǐng)域之廣,。
 
  我國(guó)XRF分析技術(shù)的建立始于20世紀(jì)50年代末,,直至20世紀(jì)80年代初主要用于科研院所和地質(zhì)實(shí)驗(yàn)室,從事地質(zhì)和材料中稀土,、鋯鉿和鈮鉭等元素的分析?,F(xiàn)已成為建材、冶金,、石油化工,、無(wú)機(jī)非金屬材料、有機(jī)材料等工業(yè)領(lǐng)域分析質(zhì)量控制的儀器之一,,并在環(huán)境分析,、文物分析、生物樣品和活體分析等領(lǐng)域獲得廣泛的應(yīng)用,。
 
  20世紀(jì)80年代初我國(guó)學(xué)者開始從事基體校正等方面的應(yīng)用基礎(chǔ)研究,,雖起步較晚,但在一次,、二次,、三次熒光X射線強(qiáng)度理論方程的推導(dǎo),原級(jí)譜測(cè)定,,基體校正及定量分析程序的編制等方面取得世人矚目的成果,。從20世紀(jì)90年代中期起,相繼開展化學(xué)計(jì)量學(xué)在XRF研究中的應(yīng)用,、X光透鏡的研制與μ-XRF光譜儀的研制,、現(xiàn)場(chǎng)XRF分析技術(shù)、SRXRF等領(lǐng)域的研究,,并均有重要貢獻(xiàn),,為XRF學(xué)術(shù)界所認(rèn)可。
 
  經(jīng)過(guò)幾代人的努力,,在儀器制造方面EDXRF譜儀已在國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)占據(jù)重要份額,,低功率的WDXRF譜儀也已批量生產(chǎn)。2001年江蘇天瑞公司研制出并批量生產(chǎn)的功率400W的EDXRF和WDXRF譜儀合為一體的儀器,,表明我國(guó)儀器廠商已從仿制走向創(chuàng)新之路,。國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的XRF制樣設(shè)備和用作WDXRF譜儀的水冷恒溫裝置,無(wú)論在種類上還是在質(zhì)量方面均已滿足常規(guī)分析需要,。
 
  2
 
  X射線熒光光譜儀器
 
  1波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀
 
  我國(guó)學(xué)者對(duì)不同時(shí)期WDXRF的進(jìn)展曾予以評(píng)述,。WDXRF譜儀從儀器光路結(jié)構(gòu)來(lái)看,依然是建立在布拉格定律基礎(chǔ)之上,,但儀器面目全新,。縱觀30年來(lái)的發(fā)展軌跡,,可總結(jié)出如下特點(diǎn),。
 
  (1)現(xiàn)代控制技術(shù)的應(yīng)用使儀器精度大幅度提升。WDXRF譜儀在制造過(guò)程中,,從20世紀(jì)80年代起,,一些機(jī)械部件為電子線路所取代,電子線路又進(jìn)而被軟件所取代,。如一些儀器制造商分別用無(wú)齒輪莫爾條紋測(cè)角儀和激光定位光學(xué)傳感器驅(qū)動(dòng)測(cè)角儀,,取代傳統(tǒng)θ/2θ齒輪機(jī)械運(yùn)動(dòng)的測(cè)角儀,2θ掃描精度也由齒輪機(jī)械運(yùn)動(dòng)的±0.001°提高到±0.0002°,,2θ掃描速度提高到80°/s,。高壓發(fā)生器經(jīng)歷了高壓放大器穩(wěn)壓、雙向可控硅與脈沖觸發(fā)電路,、諧波調(diào)制電路到今天的模塊化設(shè)計(jì)的固態(tài)發(fā)生器電路,,在外電源電壓±10%的變化范圍內(nèi),高壓電源的穩(wěn)定性可達(dá)0.00005%,。近年來(lái)電子學(xué)線路由模擬電路發(fā)展為數(shù)字電路,。這些改進(jìn)既改善了儀器性能又降低了成本,并使XRF譜儀小型化,。譜儀24h長(zhǎng)期穩(wěn)定性達(dá)到小于等于兩倍的相對(duì)計(jì)數(shù)統(tǒng)計(jì)誤差,。
 
  (2)新型X射線管和多層膜晶體改善了超輕元素的測(cè)量。20世紀(jì)90年代中期以來(lái)相繼推出新型的端窗X射線管,,延長(zhǎng)了使用壽命,,縮短了陽(yáng)極到樣品的距離,端窗口鈹窗厚度從125μm改用75μm或50μm;同時(shí)測(cè)定輕元素的分光晶體由反射式改用多層膜晶體,,可根據(jù)需要生產(chǎn)岀不同晶面間距的多層膜晶體,。多層膜晶體還具有耐輻照、背景低,、信噪比好和使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn),,這些新技術(shù)的應(yīng)用使可分析的元素原子序數(shù)從9號(hào)的氟前推到5號(hào)的硼,,在特定條件下甚至可測(cè)定4號(hào)元素鈹。
 
  (3)檢測(cè)技術(shù)的改進(jìn)提高了檢測(cè)速度,。探測(cè)器技術(shù)及用于脈沖信號(hào)處理的電子學(xué)線路的迅速發(fā)展,,在允許的死時(shí)間情況下,探測(cè)器接收光子的數(shù)量提高了1個(gè)數(shù)量級(jí)以上,,如流氣正比計(jì)數(shù)管由100kcps提高到2500kcps,,在保證同樣分析精度情況下,元素的測(cè)定時(shí)間縮短了近10倍,。如在20世紀(jì)80年代使用順序式WDXRF譜儀測(cè)定硅酸鹽中10個(gè)常規(guī)元素需要約30min,,現(xiàn)在僅需3min左右。為了將計(jì)數(shù)率控制在探測(cè)器所允許的計(jì)數(shù)線性范圍內(nèi),,譜儀在測(cè)定同一元素的不同含量時(shí)可依據(jù)計(jì)數(shù)率自動(dòng)調(diào)節(jié)管電流,,確保在條件下測(cè)量,在短時(shí)間內(nèi)獲得分析工作者預(yù)定的分析結(jié)果準(zhǔn)確度,。采用新的計(jì)數(shù)線路和多道分析器(MCA)取代原有脈沖高度分析器,,不僅可有效地扣除高次線干擾和晶體熒光干擾,且可同時(shí)處理不同幅度的脈沖信號(hào),,記錄脈沖信號(hào)較原來(lái)快了100倍,。
 
  (4)基本參數(shù)法已用于常規(guī)分析。在定量分析過(guò)程中,,進(jìn)行基體校正時(shí),,在20世紀(jì)80年代初商用軟件配有經(jīng)驗(yàn)影響系數(shù)法校正的程序,今天各個(gè)廠家生產(chǎn)的儀器配置了在線基本參數(shù)法程序或可變理論影響系數(shù)法程序,,當(dāng)試樣的物理化學(xué)形態(tài)與標(biāo)準(zhǔn)樣品相似的情況下,,使用少量標(biāo)準(zhǔn)樣品甚至一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品,也可以獲得的定量分析結(jié)果,。
 
  (5)定性和半定量分析自動(dòng)化,。在20世紀(jì)80年代,由有經(jīng)驗(yàn)的分析工作者通過(guò)查閱掃譜圖來(lái)判斷定性分析結(jié)果,,但要依據(jù)定性分析結(jié)果估算為含量是十分困難的?,F(xiàn)在商品儀器基本上配有定性和無(wú)標(biāo)準(zhǔn)樣(半)定量分析軟件,在絕大多數(shù)情況下不僅自動(dòng)給出樣品的元素組成,,還可得出近似定量的分析結(jié)果,。
 
  (6)譜儀的操作由自動(dòng)化向智能化發(fā)展。在掌握制樣技術(shù)基礎(chǔ)上,,從事常規(guī)分析的人員經(jīng)短期培訓(xùn)即可操作儀器,,在智能化軟件指引下完成常規(guī)試樣分析。如在鋼鐵和水泥等行業(yè),質(zhì)量控制分析過(guò)程中從取樣,、制樣,、傳輸、樣品裝載和取出,、測(cè)定和后報(bào)出分析結(jié)果,,以及將分析結(jié)果輸出到實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)管理系統(tǒng)與其他分析技術(shù)的結(jié)果進(jìn)行匯總,,均由軟件完成,。配有遠(yuǎn)程控制軟件,用作指導(dǎo)維修和分析,。
 
  (7)專業(yè)化的儀器和應(yīng)用軟件發(fā)展迅速,。各個(gè)廠家依據(jù)用戶的需要開發(fā)出多種軟件包,如分析多層膜分析軟件,、地質(zhì)樣品中的痕量元素測(cè)定軟件,、氧化物分析軟件、油品中雜質(zhì)分析軟件,、高溫合金和有色金屬分析軟件等,,這些軟件提供經(jīng)過(guò)優(yōu)化的分析方法,并配有適當(dāng)?shù)臉?biāo)準(zhǔn)樣品,。在絕大多數(shù)情況下可保證獲得準(zhǔn)確的分析結(jié)果,。
 
  (8)WDXRF譜儀和其他譜儀聯(lián)合使用受到重視。20世紀(jì)末一些廠家推岀WDXRF譜儀和X射線衍射儀聯(lián)合使用的儀器,,已成功地用于水泥,、鋼鐵和電解鋁熔池中電解質(zhì)的分析,可同時(shí)獲得元素組成,、價(jià)態(tài),、物相等信息。
 
  2能量色散X射線熒光光譜儀
 
  在20世紀(jì)80年代初,,EDXRF譜儀主要有:
 
 ?、僖旱鋮s的Si(Li)半導(dǎo)體探測(cè)器與X射線管及高壓電源組成的譜儀;②非色散型可攜式譜儀,它主要由封閉式正比計(jì)數(shù)器和放射性核素源組成,,通常一次僅能測(cè)定1~2個(gè)元素,。EDXRF譜儀由于儀器性能的改善現(xiàn)在測(cè)定元素已由Na擴(kuò)展到F,甚至可檢出C;可攜式XRF光譜儀用X射線管激發(fā)取代放射性核素源,,質(zhì)量?jī)H1.5kg左右,,測(cè)定元素達(dá)到20個(gè)以上。此外與WDXRF譜儀的發(fā)展不同,,除用X射線管激發(fā)的可攜式譜儀和手持式譜儀外,,在這期間EDXRF譜儀依據(jù)X射線偏振特性和全反射原理相繼推出新型的譜儀:偏振型XRF譜儀、全反射XRF譜儀、μ-XRF譜儀,?;贓DXRF譜儀和WDXRF譜儀的本質(zhì)差別在于前者收集試樣中元素的全譜,并以待測(cè)元素峰面積表示強(qiáng)度,,后者以峰高的強(qiáng)度示之,,本文將上述幾種譜儀和SRXRF均包括在EDXRF光譜中。EDXRF譜儀的性能取決于探測(cè)器能量分辨率,、用作記錄和處理脈沖信號(hào)的電子學(xué)線路與軟件以及激發(fā)光源的性能,。
 
  2.2.1半導(dǎo)體探測(cè)器
 
  近20年來(lái),半導(dǎo)體探測(cè)器有了迅猛的發(fā)展,。除Si(Li)探測(cè)器其性能有很大改善并仍在使用外,,不用液氮冷卻的新型電致冷Si-PIN半導(dǎo)體探測(cè)器于20世紀(jì)90年代中期問(wèn)世,能量分辨率已由當(dāng)初的300eV達(dá)到現(xiàn)在的140eV,,廣泛用于太空探索,、現(xiàn)場(chǎng)和常規(guī)分析,但該探測(cè)器對(duì)計(jì)數(shù)率的線性響應(yīng)范圍較小,,影響了使用,。本世紀(jì)初硅漂移探測(cè)器(SDD,silicondriftdetector)經(jīng)過(guò)不斷的完善,,已具有如下優(yōu)點(diǎn):在電致冷情況下,,能量分辨率高達(dá)127eV,其能量分辨率基本不受探測(cè)器靈敏區(qū)面積和計(jì)數(shù)率的影響,,在探測(cè)器死時(shí)間保持在10%的范圍內(nèi),,可處理高達(dá)300kcps的輸入計(jì)數(shù)率和高達(dá)130kcps的輸岀計(jì)數(shù)率,能譜采集的速度比Si(Li)探測(cè)器快5~10倍,,信噪比好,,故在許多情況下取代了Si(Li)探測(cè)器,成為測(cè)定低,、中能量X射線范圍內(nèi)的EDXRF譜儀,。
 
  2.2.2光源
 
  提供X射線管高壓電源的主要部件是高壓發(fā)生器,如WDXRF一樣演化為模塊化設(shè)計(jì)的固態(tài)發(fā)生器電路,。依據(jù)不同類型EDXRF譜儀的要求,,已開發(fā)出多種小型X射線管。從20世紀(jì)80年代末起,,不同陽(yáng)極材料的小型X射線管已逐步取代放射性核素激發(fā)源,,現(xiàn)成為現(xiàn)場(chǎng)和原位分析用的低功率EDXRF譜儀主要光源,它具有高強(qiáng)度,、適用于多元素激發(fā),、安全性好等優(yōu)點(diǎn),。
 
  在20世紀(jì)70年代已用二次靶發(fā)出的特征X射線激發(fā)樣品,對(duì)樣品而言,,二次靶相當(dāng)于激發(fā)源(熒光靶),,其優(yōu)點(diǎn)是降低背景,提高峰背比,,檢出限將比直接用X光管激發(fā)提高5~10倍,。在本世紀(jì)初相繼應(yīng)用X射線偏振和衍射性質(zhì)開發(fā)出偏振靶(巴克拉靶)和布拉格靶作為二次靶,與熒光靶一起用作偏振EDXRF譜儀光源,。
 
  我國(guó)已相繼建成BSRF北京同步輻裝置(中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所),、SRRC中國(guó)臺(tái)灣同步輻射研究中心(中國(guó)臺(tái)灣新竹)、NSRL國(guó)家同步輻射實(shí)驗(yàn)室(合肥,,中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué))和SSRF上海同步輻射裝置(上海張江,,中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理所),。其中SSRF為第三代光源,,同步輻射光可提供從遠(yuǎn)紅外光到硬X射線的寬廣波段,在X射線光子能量區(qū)域內(nèi)(0.1~40keV)可產(chǎn)生高亮度和高通量且具有偏振特性的同步輻射光,,此外,,同步輻射準(zhǔn)直性好,可實(shí)現(xiàn)微區(qū)XRF分析,,空間分辨率已達(dá)到50nm,。SSRF光源的基本性能在許多重要方面位于目前世界上正在設(shè)計(jì)和建造中的光源的前列。
 
  2.2.3能量色散X射線熒光光譜儀
 
  (1)現(xiàn)場(chǎng)和原位EDXRF,。
 
  現(xiàn)場(chǎng)和原位EDXRF分為兩種:①移動(dòng)式譜儀,,系指可以隨身攜帶的譜儀,用于現(xiàn)場(chǎng)分析;②手持式譜儀,,要求整機(jī)質(zhì)量小于1.5kg,,可實(shí)施原位分析。
 
  現(xiàn)場(chǎng)EDXRF譜儀依據(jù)所用的激發(fā)源,、探測(cè)器和電子學(xué)線路,、譜儀的技術(shù)指標(biāo)可劃分為四代。第1代約在20世紀(jì)60年代中期,,由英,、美兩國(guó)有關(guān)單位研制的便攜式放射性核素源XRF譜儀,使用平衡濾光片技術(shù),,僅能分析單個(gè)元素,,且要測(cè)定兩次。第二代始于20世紀(jì)60年代末,,采用多道分析器并用高斯擬合的方法進(jìn)行解譜,,一次可測(cè)量4個(gè)元素,20世紀(jì)80年代推岀的用小型X射線管激發(fā)、正比計(jì)數(shù)器和多道分析器商品儀器,,一次可分析約20個(gè)元素;到了20世紀(jì)90年代,,以電致冷半導(dǎo)體探測(cè)器(HgI2或Si-PIN)為主要特征的第三代譜儀,可實(shí)時(shí)進(jìn)行解譜和以Sherman方程為基礎(chǔ)的基體校正,,一次可分析約30個(gè)元素,。自本世紀(jì)初以來(lái),SDD和Si-PIN探測(cè)器經(jīng)不斷完善,,分辨率和可靠性均有所提高,,并配有微型X射線發(fā)生器和微型X射線管,具有數(shù)字濾波,、成型與穩(wěn)譜等功能,,使現(xiàn)場(chǎng)和可攜式XRF譜儀在多元素分析能力、準(zhǔn)確度和檢出限,、小型化等指標(biāo)與第三代譜儀相比均有質(zhì)的提高,。
 
  (2)高能和偏振EDXRF譜儀。
 
  Harada等報(bào)道了實(shí)驗(yàn)室用的高能EDXRF光譜分析裝置及應(yīng)用于高原子序數(shù)元素分析的優(yōu)點(diǎn),。2004年Nakai對(duì)高能X射線熒光光譜儀的近況和應(yīng)用作了評(píng)述,,他介紹了2003年P(guān)ANalytical公司推出的偏振Epsilon5EDXRF光譜儀。該儀器在100kV高電壓,、功率600W情況下工作,,使用Gd靶或Sc-W復(fù)合靶的X射線管,為了對(duì)周期表中Na~U元素進(jìn)行選擇激發(fā),,配置了9個(gè)二次靶以滿足測(cè)量需要,。使用高純Ge探測(cè)器,對(duì)MnKα分辨率小于140eV,,可滿足1~120keV能量區(qū)間的X射線檢測(cè),,對(duì)重元素的K系線測(cè)量效率接近100%,使XRF分析技術(shù)用于準(zhǔn)確測(cè)量10-7~10-6g量級(jí)的Cd,、Sb,、Se、Ta,、Tl,、I及Pr~Lu的13個(gè)稀土元素成為可能,在某種意義上彌補(bǔ)了目前WDXRF譜儀的不足,,可測(cè)定地質(zhì)和古陶瓷樣品中60個(gè)以上的元素,。
 
  (3)全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)。
 
  日本學(xué)者在1971年將少量樣品放置在平滑的全反射支撐物上進(jìn)行分析,,此后TXRF技術(shù)在歐洲得到發(fā)展,,1980年TXRF商品儀器在德國(guó)問(wèn)世,。我國(guó)學(xué)者劉亞雯在20世紀(jì)80年代后期首先撰文介紹了這一技術(shù),她所在課題組于1990年研制出有2個(gè)反射體的實(shí)驗(yàn)裝置,。此后我國(guó)其他學(xué)者相繼制造了用X射線光源和2個(gè)反射體的小型全反射譜儀,、同步輻射為光源的全反射譜儀和三重全反射光路的TXRF譜儀。近幾年國(guó)內(nèi)已能生產(chǎn)商品儀器,。
 
  (4)微束X射線熒光光譜儀(μ-XRF),。
 
  μ-XRF具有原位、多維,、動(dòng)態(tài)和非破壞性特征,,近20年來(lái),廣泛用于生物樣品活體分析,、文物分析和刑偵科學(xué)中指紋樣品鑒定等領(lǐng)域,,已成為研究X射線光譜學(xué)的熱點(diǎn)。二維μ-EDXRF譜儀已商品化,,通常是50μm微聚焦源和會(huì)聚X光透鏡組成,,使用Mo靶,電壓50kV,,大電流1mA,,功率連續(xù)可調(diào)。近年來(lái)相繼研制岀三維μ-XRF譜儀,。
 
  3
 
  化學(xué)計(jì)量學(xué)與數(shù)據(jù)處理方法研究
 
  化學(xué)計(jì)量學(xué)作為一門運(yùn)用數(shù)學(xué)和統(tǒng)計(jì)學(xué)原理及計(jì)算機(jī)技術(shù)揭示化學(xué)中各種數(shù)據(jù)之間相關(guān)性的分支科學(xué),在復(fù)雜問(wèn)題求解,、非線性和動(dòng)態(tài)體系下的關(guān)系描述方面取得了巨大成功,。就X射線熒光光譜而言,主要包括曲線擬合,、多變?cè)U?、模式識(shí)別和圖像處理等。針對(duì)X射線熒光光譜的特點(diǎn),,可以運(yùn)用的化學(xué)計(jì)量學(xué)方法有:神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),、遺傳算法、小波分析,、偏小二乘(PLS),、主元分析、聚類分析,、Kalman濾波,、蒙特卡羅模擬等。
 
  4
 
  結(jié)語(yǔ)
 
  回顧30年歷程,,表明X射線熒光光譜分析在主,、次量和痕量元素分析中發(fā)揮著重要作用,,在許多方面,特別是在無(wú)損和原位分析方面具有不可替代的地位,。近些年來(lái)興起的三維μ-XRF譜儀,、同步輻射光源與多種XRF裝置聯(lián)用、現(xiàn)場(chǎng)和原位分析用XRF等,,其發(fā)展前景與應(yīng)用潛力更是巨大的,。
 
  展望未來(lái),在X射線熒光光譜分析領(lǐng)域,,尚有不少難題需要研究,,新的領(lǐng)域有待開發(fā)。如以Sherman方程為基礎(chǔ)發(fā)展起來(lái)的基本參數(shù)法或理論影響系數(shù)法,,若要獲得準(zhǔn)確的分析結(jié)果,,要求標(biāo)樣與未知樣的物理化學(xué)形態(tài)相似,這在很多情況下是難以做到的,,尤其是在現(xiàn)場(chǎng)和原位分析時(shí)則幾乎不可能,,因此很有必要研究出一些簡(jiǎn)單方法用作識(shí)別和校正化學(xué)態(tài)的影響。deBoer等在測(cè)定鎳基鍍金層厚度時(shí),,應(yīng)用FP-MULTI軟件,,以純金和純鎳塊樣為標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定Au厚度時(shí),使用5條特征譜線(NiKα,、NiKβ,、AuLα、AuLβ1和AuLβ2)增大了計(jì)算的自由度,,能夠有效消除基本參數(shù)法計(jì)算過(guò)程的不確定性,,使測(cè)量的薄膜厚度值更準(zhǔn)確,測(cè)定值與標(biāo)準(zhǔn)值的相對(duì)偏差在2%左右,?;蚪柚c其他譜儀(如XRD)聯(lián)用中獲得的信息用作判據(jù),選擇相似標(biāo)樣,。再如μ-XRF與TXRF譜儀中,,射入到樣品上用于激發(fā)的光源與從X射線管產(chǎn)生的原級(jí)譜分布有較大改變,在校正基體效應(yīng)過(guò)程中有其特殊性,,特別是在三維μ-XRF空間分析過(guò)程中,,如何進(jìn)行基體校正更是急待解決的問(wèn)題。
 

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