X射線熒光光譜是一種常用的光譜技術,，既可用于材料的組成成分分析，又可用于涂層和多層薄膜厚度的測量等,。對于不同的應用用途,，X射線熒光光譜儀體系中探測器的選擇也不盡相同。

對于定性分析往往需要用到硅漂移探測器,。硅漂移探測器（SDDs）能夠提高低能量敏感度,，使得X射線熒光光譜技術可以對一些低原子序數(shù)元素進行檢測分析，甚至是在空氣氣氛中也能進行檢測,，例如用于測量化學鍍鎳涂層中磷元素（原子序數(shù)Z=15）的含量,。但是，大多數(shù)的低原子序數(shù)元素的檢測分析依然還需要隔離空氣氣氛,。

近年來比較流行的是一種密封的,、充氣的正比計數(shù)器，正比計數(shù)器探測器較大的半寬高（FWHM）會導致相鄰元素的檢測譜圖嚴重重疊,，以至于利用峰值搜索算法和/或可見光譜觀察法都無法探測出其中某種或者多種成分的存在,。對于一些需要鑒別元素成分的工業(yè)制造品，其質(zhì)量檢驗結果由于發(fā)生嚴重重疊,，難以分辨,，造成難以檢測。

雖然利用硅探測器也會發(fā)生譜圖上的峰重疊現(xiàn)象,，但在大多數(shù)的情況下,，這些重疊峰能夠被輕易的分離和識別，這些特征使得硅探測器體系極其適用于定性分析和來料檢驗等方面,。

硅漂移探測器具有很高的數(shù)據(jù)吞吐量,，因此當測量需要多采樣,、高精度時可以考慮使用這種探測器；但這通常需要樣品具有較高的熒光強度值,。熒光強度值取決于樣品——如樣品類型,，樣品測量區(qū)域等。

在分析測量一些薄膜或者小樣品時,，樣品的特性可能會很微小。當樣品或者樣品區(qū)很?。ㄖ睆街挥袔资⒚祝r,，探測器的立體角則會起到很大的作用。而樣品或樣品區(qū)很小的情況往往都發(fā)生在測量電子元件和功能性涂層厚度等時候,，這時正比計數(shù)器（Prop Counter）就成為了一種非常受歡迎的選擇,，因為這種探測器具有的大俘獲角允許可以使用更小的準直儀。因此,，當樣品譜圖相對簡單,，含有元素只有兩到三種，樣品分析區(qū)域直徑小到100-200微米時,，正比計數(shù)器Prop Counter則是一個非常理想的選擇,。