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優(yōu)化電子工業(yè)應(yīng)用相關(guān)的先進(jìn)材料分析流程

  從本文中了解如何通過橫截面分析法對集成電路 (IC) 芯片等電子元件進(jìn)行有效的結(jié)構(gòu)和元素分析,。探索如何通過研磨系統(tǒng)進(jìn)行銑削、鋸切,、磨削和拋光工藝以及用于同時進(jìn)行目視檢測和化學(xué)分析的二合一解決方案來完成的,。可針對電子行業(yè)的各種工作流程和應(yīng)用實(shí)現(xiàn)快速,、詳細(xì)的材料分析,，包括競爭分析、質(zhì)量控制 (QC),、故障分析 (FA) 以及研發(fā) (R&D),。

  對于電子行業(yè)來說，在對集成電路 (IC) 芯片等組件進(jìn)行 QC（質(zhì)量控制）,、故障分析,、R&D（研究與開發(fā)）和競爭分析時，有時需要進(jìn)行破壞性樣品制備,。在許多情況下,，先制作電子元件的橫截面,，然后分析內(nèi)部結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分,。

  對于此報告的詳細(xì)洞察，IC 芯片的橫截面是使用 EM TXP 精研一體機(jī)制備的,。使用 EM TXP,，可以在顯微鏡和光譜檢查之前對樣品進(jìn)行機(jī)械銑削,、鋸切、研磨和拋光,。然后使用 DM6 M LIBS 2合1 材料分析解決方案分析芯片橫截面的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分,。 DM6 M LIBS 結(jié)合了高分辨率光學(xué)顯微鏡和激光誘導(dǎo)擊穿光譜 (LIBS)，可以同時進(jìn)行目視檢測和化學(xué)分析,。

  所呈現(xiàn)的結(jié)果顯示了如何使用 EM TXP 和 DM6 M LIBS 解決方案實(shí)現(xiàn) IC 芯片橫截面先進(jìn)材料分析的高效整體工作流程,。相同的工作流程和解決方案也可以應(yīng)用于其他電子元件。

學(xué)習(xí)要點(diǎn)

本文為用戶提供：

• 有關(guān) IC 芯片橫截面的目視和化學(xué)分析的工作流程的分步指南

• 使用目研磨系統(tǒng)快速,、可靠地制備芯片橫截面樣品的技巧

• 高效可靠的芯片橫截面目視和化學(xué)分析示例

• 有關(guān)電子元件先進(jìn)材料分析的有用出版物的參考

   

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• 精研一體機(jī)EMTXP

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