化工分散混合設(shè)備、膠體磨,、均質(zhì)機(jī),、乳化機(jī)、粉液混合機(jī),、固體混合設(shè)備及成套生產(chǎn)系統(tǒng)
LABOR-PILOT是一臺(tái)緊湊和多功能的在線分散機(jī),。它是于固—液混合、均質(zhì),、乳化,、懸浮和濕磨。LABOR-PILOT 2000/4適合于廣泛的應(yīng)用,,特別是在化工,、化妝品、醫(yī)藥,、塑料,、顏料和食品行業(yè)。它設(shè)計(jì)*,,具有*的技術(shù)和六個(gè)可互換的模塊,。它可以定制,以滿足特定的程序要求,。重要的工藝要求,,如圓周速度、工具和混合室形狀相同的IKA 2000 在線生產(chǎn)機(jī)器:UTL,、DR,、DRS、MHD,、MK和MKO,。因此,LABOR-PILOT從制劑研發(fā)到批量生產(chǎn)都用同樣的方法來(lái)確??煽康臄U(kuò)大規(guī)模,。
基本在線機(jī)器配備了單級(jí)的分散模塊ULTRA-TURRAX® UTL,。它是于批量應(yīng)用,,可以生產(chǎn)由粗到細(xì)的分散體。與傳統(tǒng)的攪拌器相比,,攪拌的時(shí)間減少了50%,。
根據(jù)應(yīng)用,基本單位可用不同的工作模塊迅速地修改,。
模塊DISPAX-REACTOR® DR將LABOR-PILOT轉(zhuǎn)換成一個(gè)多級(jí)的高容量分散機(jī),,以達(dá)到超細(xì)粒徑減小。只用一次,模塊DR通常能達(dá)到一個(gè)極窄粒度分布的精細(xì)分散,。它也保證了*的同質(zhì)性,。這是乳液或懸浮液的*穩(wěn)定性的一個(gè)重要前提條件。
模塊MHD用于全連續(xù)混合粉末與液體,。通過(guò)使用這個(gè)模塊,,固體和液體的混合條件應(yīng)該是體積或重量分析控制。根據(jù)產(chǎn)品的特性,,通過(guò)一次性分散可實(shí)現(xiàn)粘度50 Pas或固體含量高達(dá)80%,。
模塊膠體磨MK和圓錐體磨MKO用于硬質(zhì)和顆粒狀原料的濕或細(xì)磨,或用于zui細(xì)乳液的生產(chǎn),,以及提高成品分散的質(zhì)量,。MK模塊包含在其表面上不同定向流道的兩個(gè)錐體。該錐體能互相轉(zhuǎn)移到zui小距離,,從而產(chǎn)生不同的摩擦力以及流量,。通過(guò)調(diào)整研磨距離,可控制實(shí)現(xiàn)的顆粒大小,。MKO模塊的工作原理和MK模塊一樣,,而區(qū)別在于它的錐體區(qū)域是涂有耐磨碳化鎢。這致使擴(kuò)大的摩擦面能在減少流量時(shí)生產(chǎn)更精細(xì)的懸浮液,。
實(shí)驗(yàn)分散機(jī)LABOR-PILOT 2000/4可升級(jí)到帶有LABOR-PILOT-CONTROLLER的高速分散機(jī),。
由于應(yīng)用的密封技術(shù)和用于粉體進(jìn)入循環(huán)模式的兩個(gè)額外的進(jìn)程模塊,LABOR-PILOT 2000/4不同于交替的PROCESS-PILOT 2000/4機(jī),。
壓力/真空和高溫或研磨材料下作業(yè),,我們*PROCESS-PILOT機(jī)。
LABOR-PILOT的優(yōu)點(diǎn):
- 靈活性和易用性:一臺(tái)機(jī)器適用于許多應(yīng)用和多種工序,。
- 與2000系列的在線機(jī)一起能在保持產(chǎn)品質(zhì)量的同時(shí)從實(shí)驗(yàn)到生產(chǎn) 平穩(wěn)過(guò)渡進(jìn)程,。
- 簡(jiǎn)便和快捷交換模塊,以及轉(zhuǎn)換到完整的生產(chǎn)設(shè)備,。
- 具有CIP 和 SIP 功能
- 通過(guò)LABOR-PILOT-CONTROLLER整體電子控制,。
Flow rate (max.) (l/h) | Motor power (kW) | Tip speed (m/s) | 參數(shù)列表 | 圖紙 | |||
Labor-Pilot 2000/4 | 300 | 1.5 | 23.5 | ![]() |