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氣相二氧化硅的工藝與問題
在利用傳統(tǒng)的攪拌和混合機時,，會出現(xiàn)一系列的下列問題。
       1 由于二氧化硅是一個非常輕的粉末,，因此很容易漂浮在液體上面,。
       2 由于二氧化硅是一個非常細(xì)小的粉塵粉末，因此很容易產(chǎn)生一些問題,，粉塵等,。
       3 需要很長的加工時間來使粉體*潤濕在液相中。
盡管氣相二氧化硅有多種不同的功能用途,，和不同的加工方法和不同的使用設(shè)備（包括簡單的攪拌機到研磨設(shè)備）,，但是都有相同的加工要求來滿足一系列的功能
       1 混合設(shè)備必須滿足迅速溶解和分散粉末到液相中。
       2 剪切作用必須獲得,。
       3 當(dāng)液體的粘度提高時,，必須考慮加工能力。
IKN混合分散設(shè)備用于氣相二氧化硅工業(yè)的優(yōu)點：
       1. 消除粉塵,。 IKN 為氣相二氧化硅與水的混合,，設(shè)計多種解決方案。粉體直接從包裝袋中吸入,，或者可以跟您的工程師一起特殊定制工藝,。

       2. 改善容器清潔問題。使用 IKN在線粉體液體混合系統(tǒng),，能夠 消除容器壁的物料殘留,，改善 清潔,，并減少原材料浪費。

       3. zui大化成分功能,。很多公司在濕化二氧化硅工藝上都遇到困難,，通常需要足夠的剪切力來達到材料活性和特定粘度，只有IKN可以提供這種類型的剪切分散機,，為氣相二氧化硅濕化混合提供足夠的剪切力,。

 

PLD2000系列間歇式粉液分散混合機

        工作原理：PLD2000裝備了一個特別設(shè)計的轉(zhuǎn)子，一個入口進液體,，另一個進粉體,。工作原理為利用特殊轉(zhuǎn)子的高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生真空， 并將粉末連續(xù)均勻地導(dǎo)入快速流動的液體中,， 經(jīng)剪切腔被瞬間均勻分散混合,。由于液體與粉體在混合前是互相不接觸的,只有在混合前的瞬間,粉末被彌散狀導(dǎo)入液流之中,所以粉末間發(fā)生團聚的概率較少。機器循環(huán)操作直到所有的粉體加入完畢,，密封粉體入口,，在混合腔繼續(xù)分散混合，根據(jù)產(chǎn)品的特點,，粉末的性能,，zui高可以達到70%的濃度。

       粉末易于團聚,，難以分散,，粉塵飛揚是現(xiàn)有粉體處理工藝的常見問題，遵循傳統(tǒng)工藝,，又無法找到更好的解決方案,，從而成為粉體工藝流程中的zui大的難點。

      依肯 針對這種日益高漲的需求,，研發(fā)了PLD2000系列產(chǎn)品,，專門用于解決粉液在線混合分散問題。由于粉末在開始就被均勻分散,，因此不存在未*濕潤的粉末,，也不會液體的表面，攪拌軸和罐壁形成接團的現(xiàn)象,。如果液體的粘度過高，建議可以在液體的入口添加一臺泵來加大循環(huán)流量,。