MIKASA米卡薩 旋轉(zhuǎn)涂布機蝕刻機半導(dǎo)體
MIKASA米卡薩 旋轉(zhuǎn)涂布機蝕刻機半導(dǎo)體

日本MIKASA米卡薩株式會社 日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉(zhuǎn)塗鈽機,，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉(zhuǎn)塗怖機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉(zhuǎn)塗鈽機,，真空泵 半導(dǎo)體制造工序中的Mikasa半導(dǎo)體設(shè)備

晶園、洗滌**晶園表面的臟污及

各種金屬離子,、成膜

在高溫擴散爐中，形成,、表面氧化膜

電路圖案設(shè)計、運用CAD制作布局,、布線

設(shè)計圖。制作光掩膜

將電路圖案沖印到中間掩,、模上(原版照片)

光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶

圓表面,，形成厚度均一的薄膜。

旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合,，復(fù)制電路

圖案。

光刻機(P13~P15)

可選組件

顯影,、去除曝光部位(正膠)的光刻膠,。

顯影裝置(P17. 18)、蝕刻

通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路,。

蝕刻裝置(P19)

離子注入/濺射

向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密閉型)

●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機
MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光,，將光掩膜與晶園重合,，復(fù)制電路圖案,。
日本MIKASA顯影,、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀

去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置

●ED-1200

●ED-3000

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光,、顯影,、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后,，提供一站式服務(wù)。另外,，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機型準(zhǔn)備了替代用機，可在發(fā)生故障時盡早應(yīng)對,，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù),。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題,，也可在現(xiàn)場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現(xiàn)了問題,、應(yīng)如何改進(jìn)等等,，從而得出解決建議,。Mikasa 作為一個可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程,。將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜,。

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光,、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后,，晶圓涂抹提供一站式服務(wù),。

日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200

各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風(fēng)扇),、AND愛安得（電子天平）、SAN-EI三英(點膠閥） HOYA光源,KURABO脫泡機,USHIO牛尾照度計,Tsubosaka壺坂電機,IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機,lambda拉姆達(dá)膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚（膜厚儀,、粒度儀）,Hitachi日立（掃描電鏡）,MIKASA米卡薩（旋涂設(shè)備、顯影）,、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克（檢查光源）,、Iwasaki巖崎,、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀）,、KOSAKA小坂（臺階儀）、HORIBA堀場儀器（分析儀）,、SIBATA柴田科學(xué)（環(huán)境測定）、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）,、yamada山田鹵素強光燈、CEDAR思達(dá),。