HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀模塊化設(shè)計(jì)

UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進(jìn)薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優(yōu)化組合,。

UVISEL Plus作為一款高準(zhǔn)確性,、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,，它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),，與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比， 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比,。光譜范圍從190nm到2100nm,。

UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技術(shù)，可在3分鐘以內(nèi)實(shí)現(xiàn)高分辨的樣品測試（190-2100 nm）,，校準(zhǔn)僅需幾分鐘,。基于全新的電子設(shè)備,，數(shù)據(jù)處理和高速單色儀,，F(xiàn)astAcq技術(shù)能夠?yàn)橛脩籼峁└叻直婕翱焖俚臄?shù)據(jù)采集。FastAcq專門為薄膜表征設(shè)計(jì),，雙調(diào)制技術(shù)可以確保您獲得優(yōu)異的測試結(jié)果,。

HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀模塊化設(shè)計(jì)相位調(diào)制技術(shù)的特點(diǎn)為高頻調(diào)制 50 kHz，信號采集過程無移動部件：

• 測試全范圍的橢偏角,，Ψ (0-90),，Δ (0-360)

• 從FUV到NIR具有優(yōu)良的信噪比

• 數(shù)據(jù)采集速度快，高達(dá)50毫秒/點(diǎn),，是動力學(xué)研究和在線測量的理想選擇

相比于采用 旋轉(zhuǎn)元件調(diào)制的傳統(tǒng)橢圓偏振光譜儀,，UVISEL Plus的相位調(diào)制模式在表征薄膜方面具有更高的靈敏度和精度,。它不僅可以探測到其他橢偏儀無法觀測到的極薄膜或界面，還可以表征50µm的厚膜,。

在測試有背反射的透明樣品時,，測試簡單、準(zhǔn)確,，無需刮花背面,。

UVISEL Plus還設(shè)計(jì)有多種附件及可選功能，便于客戶根據(jù)應(yīng)用需求及預(yù)算選擇合適的配置,。比如,，微光斑用于圖案樣品、自動變角器,、自動樣品臺等,。

UVISEL Plus采用模塊化設(shè)計(jì)，可靈活擴(kuò)展,。即可用于離線臺式測量,，也可以耦合于鍍膜設(shè)備做在線監(jiān)控。

UVISEL Plus可根據(jù)習(xí)慣選擇操作界面,，一個是 DeltaPsi2  具有建模和擬合處理功能,；另一個是 Auto-Soft 用戶導(dǎo)向的全自動樣品測試界面 ，工作流程直觀,，易于非專業(yè)人士操作,。

UVISEL Plus搭載FastAcq技術(shù)是材料研究和加工、平板顯示,、微電子和光伏領(lǐng)域中優(yōu)選通用光譜型橢偏儀,。

UVISEL Plus是材料科學(xué)研究的理想工具。

• 高精度和高靈敏度

• 模塊化設(shè)計(jì)

• 寬光譜范圍： 190-2100 nm

• 集數(shù)據(jù)測量,、建模和自動化操作為一體的軟件包

獲得的信息

• 膜層厚度,，從1?到50 µm

• 表面和界面粗糙度

• 光學(xué)常數(shù) (n,k) ，適用于各向同/異性和漸變層

• 光學(xué)特性如：吸收系數(shù)α, 光學(xué)帶隙Eg

• 材料性能：合金成分,、孔隙率,、結(jié)晶度及形貌等

• 穆勒矩陣

• 退偏

各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風(fēng)扇)、AND愛安得（電子天平）,、SAN-EI三英(點(diǎn)膠閥） HOYA光源,KURABO脫泡機(jī),USHIO牛尾照度計(jì),Tsubosaka壺坂電機(jī),IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機(jī),lambda拉姆達(dá)膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚（膜厚儀,、粒度儀）,Hitachi日立（掃描電鏡）,MIKASA米卡薩（旋涂設(shè)備、顯影）,、POLARION普拉瑞,、AITEC艾泰克（檢查光源）、Iwasaki巖崎,、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀）,、KOSAKA小坂（臺階儀）,、HORIBA堀場儀器（分析儀）、SIBATA柴田科學(xué)（環(huán)境測定）,、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）,、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈、CEDAR思達(dá)