反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕,，包括SiO2,、Si3N4、SiON,、SiC等,。

產(chǎn)品詳情：

1.氣體種類：O2、CF4,、CHF3,、SF6,、BCl3等

2.基片尺寸：zui大支持8英寸，并向下兼容6,、5,、4、3,、2英寸等以及破片

3.射頻電源     ICP電源：13.56MHz,，1400W; 偏壓電源：13.56MHz，800W

4.工藝溫度：10℃到80℃可控

5.傳送模式：自動(dòng)Loadlock傳送系統(tǒng)

       成都超邁光電科技有限公司,，為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)擬定單位,、創(chuàng)新型中小企業(yè)、省專精特新企業(yè),、新經(jīng)濟(jì)雙百企業(yè),，已通過(guò)GB/T與GJB雙體系認(rèn)證。

      超邁光電公司致力于真空鍍膜,、等離子刻蝕,、人工晶體材料和特殊裝備的技術(shù)提升，具有全系列涂層服務(wù)裝備和檢測(cè)手段,，已申請(qǐng)國(guó)家zhuanli60余項(xiàng),，軟件著作權(quán)50余項(xiàng)，擬定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)2項(xiàng),，行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1項(xiàng),，為中國(guó)物理學(xué)會(huì)固體缺陷專家委員單位，全國(guó)電熱裝備標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)單位,，已形成工業(yè)級(jí),、科研級(jí)和特殊級(jí)三大產(chǎn)品系列，公司在南充高新區(qū)(順慶高新區(qū))建有超邁智能產(chǎn)業(yè)園,，一期已完成3.5萬(wàn)平方米廠房和配套辦公生活設(shè)施建設(shè),，具備強(qiáng)大的研發(fā)和制造能力。