ACP120 阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵
| 參考價 | ￥ 19888 |
| 訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 東莞市飛粵真空科技有限公司
- 品牌 Adixen/阿爾卡特
- 型號 ACP120
- 產(chǎn)地 中國東莞
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/4/28 9:57:59
- 訪問次數(shù) 30
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BUSCH普旭，Rietschle里其樂/偉力,，Leybold萊寶,，Becker貝克，英國BOC Edwards愛德華,，日本ULVAC愛發(fā)科,，Orion好利旺,，TAIKO大晃，法國ALCATEL阿爾卡特,，Pfeiffer普發(fā)等,。
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子/電池,汽車及零部件,電氣 |
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阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵
法國ALCATEL（阿爾卡特）真空泵是半導體和電子行業(yè)的核心真空設(shè)備供應(yīng)商之一。憑借超高真空（UHV）,、潔凈無油,、耐腐蝕等核心技術(shù)，ALCATEL真空泵廣泛應(yīng)用于芯片制造,、顯示面板,、封裝、科研設(shè)備等領(lǐng)域,，助力5nm/3nm制程,、第三代半導體及Micro LED等前沿技術(shù)發(fā)展。
ALCATEL真空泵在半導體電子行業(yè)的應(yīng)用
1. 芯片制造（前道工藝）
? 光刻（Lithography）
- EUV/DUV光刻機：提供超高真空（≤10?? mbar）,，減少光散射,，確保曝光精度。
- 推薦泵型：渦輪分子泵（HiPace系列）+干式螺桿泵組合,。
? 刻蝕（Etching）
- 等離子刻蝕（Dry Etching）：穩(wěn)定維持低氣壓（10?2~10?3 mbar）,，兼容Cl?、CF?等腐蝕性氣體,。
- 推薦泵型：耐腐蝕干式泵（A4系列）,。
? 薄膜沉積（CVD/PVD/ALD）
- CVD（化學氣相沉積）：SiO?、Si?N?等薄膜生長,，需中高真空環(huán)境,。
-PVD（物理氣相沉積）：金屬濺射鍍膜（Al、Cu）,，依賴超高真空,。
- ALD（原子層沉積）：納米級薄膜沉積，要求快速抽氣與精準壓力控制,。
- 推薦泵型**：渦輪分子泵+羅茨泵（增壓）+干式前級泵,。
? 離子注入（Ion Implantation）
- 高真空環(huán)境（10?? mbar）確保離子束精準摻雜,，提升芯片性能,。
- 推薦泵型：渦輪分子泵+低溫泵（純度）。
2. 封裝與測試（后道工藝）
? 真空封裝
- MEMS傳感器,、功率器件（IGBT）：惰性氣體或真空封裝,，防止氧化。
- 推薦泵型：無油干式泵（避免碳氫污染）,。
? 氦質(zhì)譜檢漏（Leak Testing）
- 檢測芯片封裝氣密性,，確保產(chǎn)品可靠性。
- 推薦泵型：渦輪分子泵+隔膜泵（高靈敏度）。
3. 平板顯示（LCD/OLED）制造
? 顯示面板鍍膜
- ITO導電層,、OLED有機材料蒸鍍：要求高均勻性,、無顆粒污染。
- 推薦泵型：大抽速渦輪分子泵（如HiPace 3000）,。
? OLED真空封裝
- 超高真空（10?? mbar）隔絕水氧,，延長屏幕壽命。
- 推薦泵型：低溫泵（極低水汽殘留）,。
ALCATEL真空泵的核心技術(shù)優(yōu)勢
? 超高真空（UHV）性能：支持10?? mbar真空,，滿足EUV光刻等需求。
? 100無油設(shè)計：干式泵,、磁懸浮渦輪泵杜絕碳氫污染,，符合SEMI潔凈標準。
? 耐腐蝕處理：特殊涂層（如Al?O?）應(yīng)對WF?,、HCl等蝕刻氣體,。
? 智能控制：集成IoT傳感器，實時監(jiān)控壓力,、溫度,，提升工藝穩(wěn)定性。
為什么半導體選擇ALCATEL真空泵,？
?? ASML（光刻機）,、應(yīng)用材料（AMAT）、Lam Research（刻蝕設(shè)備）等廠商長期合作,。
?? 適配3nm/2nm制程,、SiC/GaN第三代半導體等未來技術(shù)需求。
?? 普發(fā)真空（Pfeiffer Vacuum）服務(wù)網(wǎng)絡(luò),，提供快速技術(shù)支持與定制化方案,。
ALCATEL真空泵——為半導體創(chuàng)新提供純凈、穩(wěn)定,、高效的真空環(huán)境,！ 阿爾卡特半導體電子行業(yè)真空泵
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