德國ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子
參考價 | ¥ 48000 |
訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 北京漢達森機械技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/4/1 11:34:44
- 訪問次數(shù) 237
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供貨周期 | 一個月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,電氣,綜合 |
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德國ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子
公司簡介:
ADL Analoge & Digitale Leistungselektronik GmbH是一家開發(fā)和制造商,,生產(chǎn)電源和發(fā)電機,,以及用于特殊工業(yè)應(yīng)用和研究機構(gòu)的電力電子設(shè)備。
ADL 濺射技術(shù)在產(chǎn)品和鍍膜設(shè)計方面擁有 30 多年的經(jīng)驗和專業(yè)知識,。這種專業(yè)知識使 ADL 成為各種薄膜涂層合作伙伴 - 用于顯示器、箔,、玻璃,、硬涂層、工具,、裝飾表面,、微電子等等。
產(chǎn)品介紹:
離子源電源GG 12 Beam
產(chǎn)品特點:
在離子束和等離子體工藝技術(shù)中的廣泛應(yīng)用
蝕刻,、濺射等等
創(chuàng)新應(yīng)用,,例如微電子、光學(xué)和傳感器
工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域
鍍膜工藝:在光學(xué)鍍膜,、硬質(zhì)涂層等工業(yè)鍍膜過程中,,ADL GG 12 Beam 為離子源提供穩(wěn)定的電力,使離子能夠均勻地轟擊靶材,,實現(xiàn)高質(zhì)量的薄膜沉積,。這種高質(zhì)量的鍍膜可以提高產(chǎn)品的耐磨性、耐腐蝕性,、光學(xué)性能等,,廣泛應(yīng)用于眼鏡鏡片、刀具,、汽車零部件等產(chǎn)品的表面處理,。
半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片制造過程中,用于離子蝕刻,、離子注入等關(guān)鍵工藝,。通過精確控制離子源的參數(shù),實現(xiàn)對芯片結(jié)構(gòu)的高精度加工和摻雜,,確保芯片的性能和可靠性,。例如,在芯片的光刻工藝之后,,利用離子蝕刻技術(shù)可以精確地去除不需要的半導(dǎo)體材料,,形成復(fù)雜的電路結(jié)構(gòu);而離子注入則可以精確地控制半導(dǎo)體中的雜質(zhì)濃度,,從而調(diào)節(jié)晶體管的性能,。
型號列表:
GG 03 Accelerator 09Z001
GG 03.1 Accelerator 09Z002
GG 08 Accelerator 09Z005
GG 12 Beam 09Z011
GG 12.1 Beam 09Z012
德國ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子