日本SEN日森真空清洗設(shè)備PL1-1107A

日本SEN日森真空清洗設(shè)備PL1-1107A

技術(shù)參數(shù)真空度：可達(dá)到 0~0.001Torr,，能有效營(yíng)造真空環(huán)境,，為清洗過(guò)程提供穩(wěn)定的基礎(chǔ)條件，確保清洗效果,。

紫外光波長(zhǎng)：可同時(shí)發(fā)射 185nm 和 254nm 的紫外光,，利用這兩種波長(zhǎng)紫外光的特性進(jìn)行光分解和光敏氧化反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)高效清洗和表面處理,。

照射尺寸：照射尺寸為 300×400mm,，可滿足一定尺寸的工件清洗需求，能夠用作生產(chǎn)機(jī)器,，適用于批量生產(chǎn)中的表面處理,。

工作原理：與其他 SEN 日森的 UV 清洗設(shè)備類(lèi)似，該設(shè)備利用 185nm 波長(zhǎng)紫外光將空氣中的氧氣分解成臭氧,，254nm 波長(zhǎng)的紫外光將臭氧分解成氧氣和活性氧,。活性氧具有強(qiáng)烈的氧化作用，與工件表面的有機(jī)物污染物發(fā)生氧化反應(yīng),，使其分解成揮發(fā)性氣體逸出,，從而達(dá)到清洗和表面處理的目的。

應(yīng)用場(chǎng)景光學(xué)領(lǐng)域：可用于透鏡和棱鏡的清潔和表面改性,，去除表面的油污,、灰塵、指紋等污染物,，提高光學(xué)元件的透光率和成像質(zhì)量,，改善表面的光學(xué)性能。

電子行業(yè)：對(duì)各種基板材料進(jìn)行預(yù)處理,，如半導(dǎo)體硅片,、印制電路板等，去除表面的有機(jī)物雜質(zhì),，提高基板表面的清潔度和潤(rùn)濕性,，有利于后續(xù)的光刻、鍍膜,、焊接等工藝的進(jìn)行,，提高產(chǎn)品的良品率和可靠性。

材料處理：能對(duì)金屬和玻璃等材料進(jìn)行表面處理,，改善表面潤(rùn)濕性,，提高材料對(duì)粘合劑、油漆和涂料的附著力,，增強(qiáng)材料的表面性能和使用壽命,。