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Si3N4 X射線(xiàn)同步輻射用氮化硅薄膜窗口

參考價(jià) 120
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 上海昭沅儀器設(shè)備有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) Si3N4
  • 產(chǎn)地 進(jìn)口
  • 廠(chǎng)商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2018/5/14 9:00:00
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 1194
產(chǎn)品標(biāo)簽

氮化硅薄膜窗口

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上海昭沅儀器設(shè)備有限公司,,代理多項(xiàng)世界*公司的表面形貌測(cè)試產(chǎn)品,,擁有一支由經(jīng)驗(yàn)豐富的銷(xiāo)售人員和技術(shù)人員組成的團(tuán)隊(duì),,著重為各高校,,研究所等單位提供完整的實(shí)驗(yàn)室科研儀器設(shè)備。    

    公司倡導(dǎo)以客戶(hù)為中心的專(zhuān)家式營(yíng)銷(xiāo)模式,,關(guān)注產(chǎn)品和服務(wù)的每一個(gè)細(xì)節(jié),,吸引了一批中青年專(zhuān)業(yè)人才,,組成了充滿(mǎn)活力的技術(shù)開(kāi)發(fā)和經(jīng)營(yíng)管理隊(duì)伍,通過(guò)與大量用戶(hù)的良好互動(dòng),,穩(wěn)步建立起完善的市場(chǎng)網(wǎng)絡(luò)和*平臺(tái),。為進(jìn)一步提升產(chǎn)品品質(zhì),公司組織專(zhuān)門(mén)人員建立企業(yè)標(biāo)準(zhǔn),,由上海市技術(shù)*備案,,保證產(chǎn)品更具*的品質(zhì)和優(yōu)異的穩(wěn)定性。 
    
公司秉承合作,、服務(wù),、創(chuàng)新的經(jīng)營(yíng)宗旨和服務(wù)理念,決心為客戶(hù)提供無(wú)微不致的關(guān)懷,,為中國(guó)科技教學(xué)實(shí)踐,、材料測(cè)試、生物醫(yī)學(xué)研究,、微納機(jī)電系統(tǒng)研發(fā)等領(lǐng)域提供*的解決方案與咨詢(xún)服務(wù),。

 

各種光學(xué)顯微鏡,顯微鏡、勻膠機(jī),、等離子清洗機(jī),、干燥箱、探針式臺(tái)階儀輪廓儀,防震平臺(tái),全光纖測(cè)試系統(tǒng),凝固點(diǎn)測(cè)試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材

 X射線(xiàn)透射顯微成像/能譜(同步輻射)用氮化硅薄膜窗口

產(chǎn)品概述:
X-射線(xiàn)薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(xiàn)(如真空紫外線(xiàn))的zui大透射率,。主要用于同步輻射X射線(xiàn)透射顯微成像時(shí)承載樣品,。 X-射線(xiàn)越軟(能量越低),穿透能力越差,,所需氮化硅薄膜窗越薄,。特別在“離軸”狀態(tài)工作(即薄膜與光束成一定角度)時(shí),也需要較薄的薄膜窗口,,便于X射線(xiàn)更好地穿透,。
氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成,由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅(0-250MP)薄膜,,因此比計(jì)量式和ST氮化硅薄膜更堅(jiān)固耐用,。提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域,例如,,X-射線(xiàn)(上海光源透射成像/能譜線(xiàn)站),、TEM、SEM,、IR,、UV等。
現(xiàn)在提供X-射線(xiàn)顯微成像/能譜(同步輻射)用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品,,規(guī)格如下:
外框尺寸 (4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格):
  • 5 mm x 5 mm (窗口尺寸:1.0 mm或和 1.5 mm 方形)
  • 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸:2.0 mm或 2.5 mm)
  • 10 mm x 10 mm (窗口尺寸:3.0 mm或 5 mm 方形)
邊框厚度: 200µm,、381µm,、525µm。 
Si3N4薄膜厚度:50,、100,、150和200nm
我們也可以為用戶(hù)定制產(chǎn)品(30-500nm),但要100片起訂,。
本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品,,不建議用戶(hù)重復(fù)使用,本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,,適合化學(xué)清洗,、輝光放電和等離子體清洗。
 
技術(shù)指標(biāo):
透光度:
對(duì)于X射線(xiàn)用窗口,,500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果,,對(duì)于軟X射線(xiàn)(例如碳邊吸收譜),100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶(hù)*,。
真空適用性:
真空適用性數(shù)據(jù)如下: 

薄膜厚度
窗口面積
壓力差
≥50 nm
≤1.0 x 1.0 mm
1 atm
≥100 nm
≤1.5 x 1.5 mm
1 atm
≥200 nm
≤2.5 x 2.5 mm
1 atm


表面平整度:
氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品的表面平整性很穩(wěn)定(粗糙度小于1nm),,對(duì)于X射線(xiàn)應(yīng)用沒(méi)有任何影響。
 
溫度特性:
氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品是耐高溫產(chǎn)品,,能夠承受1000度高溫,,非常適合在其表面利用CVD方法生長(zhǎng)各種納米材料。
 
化學(xué)特性:
氮化硅薄膜窗口是惰性襯底,。
 
應(yīng)用簡(jiǎn)介和優(yōu)點(diǎn):
1,、同步輻射X射線(xiàn)(紫外或極紫外)透射成像或透射能譜應(yīng)用中是*的樣品承載體。
2,、耐高溫,、惰性襯底,適應(yīng)各種聚合物,、納米材料,、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境,,利于制備理想的用于X射線(xiàn)表征用的自組裝單層薄膜或薄膜(薄膜直接沉積在窗口上),。
3、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體,。特別是在等離子體處理后,,窗口具有很好的親水性。
4,、耐高溫,、惰性襯底,也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。
5,、適合做為膠體、氣凝膠,、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體,。
同步輻射X射線(xiàn)應(yīng)用參考文獻(xiàn):PRL

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