PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機構(gòu)實驗室的桌面型科研設(shè)備,，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進(jìn)行干法刻蝕,。該系統(tǒng)包括反應(yīng)腔室，真空系統(tǒng),，RF射頻系統(tǒng),，反應(yīng)氣路系統(tǒng)，電器控制,，軟件程序等幾個子系統(tǒng),。

整套系統(tǒng)為全自動化軟件控制，支持recipe編寫,，支持多個工藝步驟自動運行的能力,。設(shè)備設(shè)有互鎖，斷電記憶,，自動報警,，分子泵保護(hù)等安全保護(hù)功能。為了保證設(shè)備的靈活性預(yù)留一定的升級空間,。

科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：

1.反應(yīng)腔室：T6060鋁合金,，適合4寸及以下樣品；

2.真空系統(tǒng)由分子泵以及機械泵組成,，真空測量系統(tǒng)采用電容式壓力計,；

3.設(shè)備配有1000w的13.56MHz的射頻電源，自動射頻匹配器,，以及射頻線纜以及專用射頻接頭,；

4.配有4路反應(yīng)氣體，最多刻升級至6路,；

5.ICP 等離子體刻蝕機整套系統(tǒng)為自動化控制系統(tǒng),，該自動化系統(tǒng)通過PLC、工控機以及控制軟件共同實現(xiàn),。

科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域：

微電子制造?：等離子刻蝕廣泛應(yīng)用于集成電路和芯片制造,，用于制作電路中的細(xì)微結(jié)構(gòu)，如晶體管,、電容器等,，以及修復(fù)或調(diào)整芯片上的電子設(shè)備。

?光學(xué)器件制造?：等離子刻蝕技術(shù)可用于制造光學(xué)器件,，如光纖,、光波導(dǎo)等。通過控制等離子體的能量和密度,，可以在光學(xué)材料上形成所需的結(jié)構(gòu)和形狀,。

?MEMS制造?：等離子刻蝕機可用于制造微機電系統(tǒng)（MEMS）中的細(xì)微結(jié)構(gòu)和器件，例如微型傳感器,、無線通信設(shè)備和微機械運動系統(tǒng)等,。

?光罩制造?：等離子刻蝕用于制造光罩上的圖案，以及修復(fù)或修改光罩上的細(xì)微結(jié)構(gòu),。

?生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用?：等離子刻蝕可用于生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,，如微流控芯片、生物芯片等的制造,，實現(xiàn)微觀結(jié)構(gòu)的制備,，用于生物分析和實驗。

?納米技術(shù)?：等離子刻蝕可以用于制造納米材料和納米結(jié)構(gòu),，如納米管,、納米顆粒等，通過控制等離子體的成分和反應(yīng)條件,，實現(xiàn)對材料的精確修飾和控制,。

?晶圓制造?：在晶圓制造過程中，等離子刻蝕機利用四氟化碳?xì)怏w進(jìn)行硅片的線刻蝕,，以及氮化硅刻蝕和光刻膠的去除,。通過調(diào)整氣體成分，可以精確控制刻蝕深度,，實現(xiàn)微米級的高精度刻蝕,。