FLTZ-403 封裝可靠性測試設備 制程驗證chiller
| 參考價 | ￥ 147987 |
| 訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
- 品牌 冠亞恒溫
- 型號 FLTZ-403
- 產(chǎn)地 江蘇省無錫市錫山區(qū)翰林路55號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/2/27 16:21:57
- 訪問次數(shù) 127
聯(lián)系方式：劉經(jīng)理13912479193 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
制冷加熱循環(huán)器,、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應釜溫控系統(tǒng),、加熱循環(huán)器,、低溫冷凍機,、低溫制冷循環(huán)器,、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱,、低溫冷凍機,、加熱制冷恒溫槽等設備
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 |
|---|---|---|---|
| 冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 一體式 |
| 應用領域 | 化工,電子,航天,汽車,電氣 |
封裝可靠性測試設備 制程驗證chiller
封裝可靠性測試設備 制程驗證chiller
在薄膜沉積工藝中，Chiller（冷卻機）的應用影響比較大,，因為準確的溫度控制可以確保薄膜的質(zhì)量和均勻性,。以下是一些薄膜沉積工藝中Chiller的應用案例：
案例一：物理氣相沉積（PVD）工藝冷卻
應用描述：在PVD過程中，如磁控濺射或蒸發(fā)鍍膜,，靶材和基底需要維持在特定的溫度范圍內(nèi)以保證薄膜的質(zhì)量和附著力,。
解決方案：使用Chiller為PVD設備提供準確的溫度控制，通過冷卻循環(huán)系統(tǒng)維持靶材和基底的溫度,。
效果：薄膜沉積工藝冷卻chiller通過準確的溫度控制,，提高了薄膜的均勻性和附著力，減少了應力和缺陷的產(chǎn)生,。
案例二：化學氣相沉積（CVD）工藝冷卻
應用描述：在CVD過程中,，如低壓CVD或等離子增強CVD，反應室的溫度控制對于薄膜的生長速率和質(zhì)量影響比較大,。
解決方案：采用Chiller為CVD反應室提供冷卻,，以維持恒定的生長溫度并控制反應速率。
效果：薄膜沉積工藝冷卻chiller有效的溫度控制提高了薄膜的生長速率和均勻性,，減少了缺陷和雜質(zhì)的引入,。
案例三：原子層沉積（ALD）工藝冷卻
應用描述：在ALD過程中，準確的溫度控制對于實現(xiàn)原子級別的薄膜厚度和均勻性影響比較大,。
解決方案：使用Chiller為ALD反應室提供準確的溫度控制,，以實現(xiàn)準確的薄膜厚度和均勻性,。
效果：薄膜沉積工藝冷卻chiller通過準確的溫度控制，實現(xiàn)了原子級別的薄膜厚度和均勻性,，提高了器件的性能和可靠性,。
采購中心
化工儀器網(wǎng)