價(jià)格區(qū)間 | 100萬(wàn)-200萬(wàn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,航空航天,制藥/生物制藥,綜合 |
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微波等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng)
Microwave Plasma Atomic Layer Deposition System
Description:
●微波頻率:2.45±0.025 GHz
●微波功率:≥3 KW連續(xù)可調(diào)
●可實(shí)現(xiàn) <+/-3% 的均勻沉積
●氣體:SiH4,NH3, N2O, Ar, N2, CF4, O2..
●極限壓力:≤1X10 -3Torr
●尺寸:8英寸晶圓
●用 途:SiO2,SixNx...etc.,
原子層沉積是一種特殊的化學(xué)氣相沉積技術(shù),,通過(guò)將氣相前驅(qū)體交替地通入反應(yīng)室,,并在基底表面發(fā)生化學(xué)吸附和反應(yīng),形成原子級(jí)別的薄膜,。
原子層沉積技術(shù)具有以下關(guān)鍵特性:
?1. 自限制生長(zhǎng)?:每次反應(yīng)只發(fā)生在單層原子上,,確保薄膜的厚度和組成可控。
2?. 優(yōu)異的三維保型性?:能夠在復(fù)雜形狀的基底上均勻沉積薄膜,。
?3. 大面積均勻性?:能夠在較大的基底面積上
應(yīng)用領(lǐng)域
?微電子?:用于邏輯器件中的高K柵介電質(zhì),、柵電極HfO2、La2O3等,,以及DRAM的電容器介電層?,。
?微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)?:用于防磨損、防粘附的涂層如Al2O3/TiN?,。
?光學(xué)?:用于光學(xué)濾鏡,、透明導(dǎo)電氧化物、防反射圖層,、電致發(fā)光顯示屏等?,。
?新能源?:用于太陽(yáng)能電池的鈍化層、緩沖層,、透明電極,,以及鋰離子電池的陽(yáng)極、陰極,、固體電解質(zhì)?,。
?催化材料?:用于氧化物催化劑如MnO2、ZnO,、TiO2,,以及金屬催化劑如Pt?,。
?生物領(lǐng)域?:用于生物傳感器和生物芯片的制備?。