Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡
參考價(jià) | ¥10000000-¥-1 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 賽默飛世爾科技(中國(guó))有限公司
- 品牌FEI/賽默飛
- 型號(hào)
- 所在地上海
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間2025/1/20 16:04:21
- 訪問次數(shù) 124
聯(lián)系方式:賽默飛世爾科技021-60355786 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 700萬(wàn)-1500萬(wàn) |
---|---|---|---|
儀器種類 | 場(chǎng)發(fā)射 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 |
Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡介紹
一直以來,Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的電子和離子光學(xué)系統(tǒng),、配件和軟件,,能夠?yàn)榧{米量級(jí)研究提供強(qiáng)大的解決方案。對(duì)于從事納米技術(shù)前沿研究的科學(xué)家,,Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界,,為材料研究開辟新的天地。
借助價(jià)值的亞納米 SEM 成像技術(shù),、S/TEM 超薄樣本制備能力以及精確的原型設(shè)計(jì)功能,,科學(xué)家能夠?qū)?Helios NanoLab 當(dāng)作理想的研究伴侶,為未來的科技進(jìn)步開發(fā)創(chuàng)新的新材料和納米量級(jí)器件,。
Helios NanoLab 的材料科學(xué)應(yīng)用
在材料科學(xué)領(lǐng)域,,研究人員面臨的挑戰(zhàn)是持續(xù)改善目前制造的材料和設(shè)備的質(zhì)量。為了實(shí)現(xiàn)技術(shù)進(jìn)步,,在納米量級(jí)了解結(jié)構(gòu)和成分細(xì)節(jié)至關(guān)重要,。Helios NanoLab 設(shè)計(jì)用來以低至亞納米量級(jí)的分辨率提供多尺度、多維度洞察,,讓研究人員能夠觀測(cè)樣本最微小的細(xì)節(jié),。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備最高質(zhì)量的樣本。此外,,如果研究工作包括開發(fā) MEMS 或 NEMS 器件,,也可配備 Helios NanoLab 打造全功能原型,。
Helios NanoLab 的電子工業(yè)應(yīng)用
Helios NanoLab 是一款極其靈活的平臺(tái),既能以很高的效率制備 TEM 樣本,,又能開展高性能低電壓成像以分析高級(jí)邏輯和存儲(chǔ)器件,。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個(gè)配置,效率高,,并且是面向?qū)嶒?yàn)室和近生產(chǎn)環(huán)境的低每樣本成本半導(dǎo)體分析工作流的關(guān)鍵組成部分,。
Helios NanoLab 的自然資源應(yīng)用
地質(zhì)學(xué)家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術(shù)對(duì)鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術(shù)特色,,博采 FIB(聚焦離子束)銑削和 SEM(掃描電子顯微鏡)分析之長(zhǎng),。借助自動(dòng)化序列樣本銑削和成像功能,客戶可以創(chuàng)建二維序列圖像,,進(jìn)而開展三維容積重建,。根據(jù)這些數(shù)據(jù),客戶可以在微米至納米量級(jí)別觀測(cè)和量化孔隙網(wǎng)絡(luò)等紋理,。
Helios NanoLab 的生命科學(xué)應(yīng)用
要想在三維背景下了解生物事件,就必須采用專用的成像解決方案,,而且這些成像解決方案應(yīng)能以很高的分辨率呈現(xiàn)極小的細(xì)節(jié),,從而揭示出復(fù)雜網(wǎng)絡(luò)的超微結(jié)構(gòu)和空間結(jié)構(gòu)。Helios NanoLab 具有 SEM 性能和可靠,、精確的 FIB 切片能力,,還配備了高精度壓電工作臺(tái),堪稱小型 DualBeam 平臺(tái)的之選,。出色的成像能力,,輔以透鏡內(nèi)和柱內(nèi)檢測(cè)器提供的高對(duì)比度檢測(cè)技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)真正對(duì)比度,。