一,、產(chǎn)品關(guān)鍵詞

溶膠定轉(zhuǎn)子剪切研磨機(jī)，溶膠定轉(zhuǎn)子高速研磨機(jī),，化學(xué)品高速研磨機(jī)，溶膠研磨機(jī)，溶膠膠體磨,，溶膠研磨分散機(jī),，溶膠高速研磨機(jī),，

二、高剪切研磨機(jī)的結(jié)構(gòu)

溶膠定轉(zhuǎn)子剪切高速研磨機(jī)采用分體式結(jié)構(gòu),，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,，線速度41m/s，剪切研磨能力強(qiáng),，透過(guò)研磨機(jī)定,、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力,、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎,，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果,。

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三、溶膠的簡(jiǎn)介

溶膠是屬于膠體化學(xué)范疇，而是研究這些微小顆粒（膠體顆粒）分散體系的科學(xué),，通常規(guī)定膠體顆粒的直徑大小為1-100nm(也有人主張1-1000nm),。并把直徑為1-100nm的分散相粒子在分散介質(zhì)里的分散,，并且分散相粒子與分散介質(zhì)之間有明顯物理分界面的稱之為膠體分散體系,。習(xí)慣上，把分散介質(zhì)（分散劑）為液體的膠體分散體系稱為液溶膠或溶膠,。

液溶膠是指通過(guò)水解和聚合作用,，形成的有機(jī)或無(wú)機(jī)的納米或微米級(jí)的粒子，這些粒子通常帶有電荷,，并由于電荷作用,，吸附一層溶劑分子，形成由溶劑包覆的納米或微米粒子,，即膠體粒子,，這些膠體粒子由于帶有電荷而相互排斥,，從而能以懸浮狀態(tài)存在于溶劑中,，即形成溶膠；膠體粒子由于失去電荷,，或者包覆在外圈的溶劑層被破壞,，膠體粒子發(fā)生聚合，溶膠發(fā)生固化即形成凝膠,。

四,、制備溶膠的方法

由于制備溶膠要求分散質(zhì)以交替狀態(tài)分布于介質(zhì)中，而且這種分散體系能在穩(wěn)定劑存在下能夠穩(wěn)定下來(lái),。從粒子大小看,，由于溶膠粒子小于可濾出的粒子，而大于一般溶液的小分子,，故可采用兩種途徑達(dá)到：將大塊物質(zhì)利用研磨機(jī)等手段,，磨成直徑0.1—1μm的粒子,，即分散法,；或使更小粒子凝聚成膠體粒子,，即凝聚法,。

分散法：可以采取機(jī)械研磨,，超聲作用,，電分散或化學(xué)法等。

凝聚法：使小分子聚集成膠體粒子z簡(jiǎn)單的辦法是更換溶劑法,，例如將乙醇的硫磺溶液倒入水中，形成硫磺的水溶液,；也可以利用化學(xué)反應(yīng)生成難溶性產(chǎn)物,。在此,，難溶性化合物從飽和溶液中吸出的過(guò)程中,，使其停留在膠粒大小階段。因?yàn)榫w粒子成長(zhǎng)決定于兩個(gè)因素：晶核生長(zhǎng)速度W和晶體生長(zhǎng)速度Q,，所得粒子分散度與W/Q之比值成正比,，那些有利于晶核大量生長(zhǎng)而減慢晶體生長(zhǎng)速度的因素都有利于溶膠形成（不利于得到大晶體）。

五,、研磨分散機(jī)的原理
GM2000系列溶膠定轉(zhuǎn)子剪切高速研磨機(jī)特別適合于膠體溶液,、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn),。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,，GM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨,。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果,。GM2000整機(jī)采用z佳幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種需求,。
  

SGN研磨機(jī)結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)：一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),，三級(jí)為超微磨碎區(qū),。我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣,，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別,。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨,，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。

六,、GM2000系列的特點(diǎn)：

1,、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽,。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。

2、齒列的深度：從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm,，范圍比較大,，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣,。

3,、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,。

七、GM2000系列設(shè)備選型表

注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到z大允許量的10%,。