GMD2000油性石墨漿料納米研磨分散機(jī)產(chǎn)品介紹：

石墨烯漿料分類(lèi)

石墨烯漿料分為兩種,，以水為介質(zhì)分散叫水性,，以NMP為介質(zhì)分散叫油性，石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同,，一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料,，影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多，設(shè)備的選型,，分散劑的使用，固含量的把握,。

石墨烯的主要制備方法

石墨烯主要制備方法：制備石墨烯常見(jiàn)的方法為機(jī)械剝離法,、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法和化學(xué)氣相沉積法（CVD）,。

1.機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對(duì)運(yùn)動(dòng),，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu),，但是得到的片層小，生產(chǎn)效率低,。

2.氧化還原法是通過(guò)將石墨氧化,，增大石墨層之間的間距，再通過(guò)物理方法將其分離,，然后通過(guò)化學(xué)法還原,，得到石墨烯的方法。這種方法操作簡(jiǎn)單,，產(chǎn)量高,，目前國(guó)內(nèi)使用氧化，還原法制作石墨烯漿料的,。

3.SiC外延法是通過(guò)在超高真空的高溫環(huán)境下,，使硅原子升華脫離材料，剩下的C原子通過(guò)自組形式重構(gòu),，從而得到基于SiC襯底的石墨烯,。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯，但是這種方法對(duì)設(shè)備要求較高

4.CVD也叫氣相沉積法是目前很有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量,、大面積石墨烯的方法,。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點(diǎn)，國(guó)內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)

GMD2000油性石墨漿料納米研磨分散機(jī)特點(diǎn)：

1,、GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下,。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到更低,，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行,。

2、GMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力,，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,，GMD2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送,；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料,，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷,；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

GMD2000結(jié)構(gòu)：

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽,。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,，凹槽在每級(jí)都可以改變方向,。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度,、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。

GMD2000選型表