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CY-MSH325-III-DCDCRF-SS 分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀

參考價 250000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-MSH325-III-DCDCRF-SS
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/12/3 11:21:20
  • 訪問次數(shù) 27

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),,是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā),、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備,、熒光粉燒結(jié)設(shè)備,、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備,、電池材料制備,、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,,先后研發(fā)出了多款*材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐,、真空管式爐,、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐,、氧化鋯燒結(jié)爐,、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐,、電池材料燒結(jié)爐,、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐,、CVD管式爐等,;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱,、真空干燥箱,、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機,、高純石英管,、99剛玉管、真空法蘭等,。

近年來,,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系,;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,,博導為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學術(shù)界保持交流,,出國訪問,,并親臨一線指導產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,,并緊跟世界研究熱點,,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美,、日韓等國家,,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念,;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團隊為您量身定做,!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信,、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認可,。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業(yè)務(wù)洽談,。


管式爐,,氣氛爐,馬弗爐,,等離子磁控濺鍍膜儀,,等離子清洗機,切斷機,,拋光機

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,冶金,汽車,電氣 真空腔體 直徑≦100mm的平面樣品均可
樣品臺尺寸 直徑≦100mm的平面樣品均可 磁控靶 普通永磁靶,,可調(diào)角度
靶材尺寸 直徑2英寸,厚度≦3mm, 濺射功率 濺射功率

分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,,具有標準化,、模塊化、可定制化的特點,。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源和500W射頻電源,,直流電源可用于金屬薄膜的制備,,射頻電源可用于非金屬膜的制備,,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,,各型電源均有300W1000W多種規(guī)格可選。
鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計,,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,,以滿足復雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標配渦輪分子泵組,,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購,。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,,可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率,。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制,,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,,可以進一步提高您的實驗效率,。
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜,、合金薄膜,、半導體薄膜、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜,、光學薄膜、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,,其不僅應(yīng)用廣泛,,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備

分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制

產(chǎn)品型號

CY-MSH325-III-DCDCRF-SS

供電電壓

AC220V,,50Hz

整機功率

6KW

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

850

控溫精度

±1

可調(diào)轉(zhuǎn)速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,,厚度≦3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

數(shù)量

3

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套,,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,,分辨率0.10 ?

濺射電源

配直流電源,功率500W*2  射頻電源300W

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

設(shè)備尺寸

570mm×1040mm×1700mm

設(shè)備重量

350kg





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