美國(guó) AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空

美國(guó) AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空

美國(guó) AP TECH,電子源,熱離子發(fā)射器 （TE）,陰極,六硼化鑭 （LaB6）,六硼化鈰 （CeBix®） 的 Sl.均 LaB6,CeBix®

數(shù)十年的研究,、開(kāi)發(fā)和電子源制造，對(duì)電子發(fā)射物理學(xué)的深入了解使其成為商用熱敏,、場(chǎng)發(fā)射和熱場(chǎng)發(fā)射陰極生產(chǎn)商,，這些產(chǎn)品用于顯微鏡,、微量分析、X 射線生成,、光刻,、增材制造或任何其他需要高亮度源的電子束應(yīng)用。

熱離子發(fā)射器 （TE）

在熱離子狀態(tài)下工作的陰極被加熱到高溫,。當(dāng)電子有足夠的熱能來(lái)克服制造陰極的材料的功函數(shù)時(shí),，就會(huì)發(fā)生發(fā)射。

我們的熱離子陰極由六硼化鑭 （LaB6） 和六硼化鈰 （CeBix®） 的 Sl.均 LaB6和 CeBix® 是低功函數(shù)材料,，可生產(chǎn)相對(duì)高亮度的陰極,，有適度的真空要求和較長(zhǎng)的保質(zhì)期。這些陰極可在高達(dá) 20 A/cm 的電流密度下提供長(zhǎng)期,、穩(wěn)定的運(yùn)行2,，使其成為 SEM、TEM,、電子束滅菌,、表面分析和計(jì)量等小光斑應(yīng)用以及 X 射線生成、光刻和增材制造等大電流應(yīng)用的理想選擇,。

在 APT,，制造自己的高質(zhì)量單晶 LaB6和 CeBix® 內(nèi)部使用一種工藝，生產(chǎn)市面上純凈和低的功函數(shù)材料,。精煉后,，硼化物可以定制成各種形狀，具有不同的加熱,、安裝和底座配置，所有這些都旨在滿足客戶的操作和性能要求,。

功函數(shù)略低于 LaB6,，CeBix® 陰極在略低的工作溫度下產(chǎn)生更高的電流。因此,，CeBix® 源的亮度略高,，使用壽命更長(zhǎng)。APT 是CeBix® 陰極商業(yè)生產(chǎn)商,。

還可以提供 LaB6和 CeBix® 單晶棒和圓盤