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Wintech ICP-200 微蕓電感耦合等離子體刻蝕機

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干法刻蝕電感耦合半導(dǎo)體

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     公司創(chuàng)始人與核心團隊成員均源自國內(nèi)頭部半導(dǎo)體設(shè)備制造供應(yīng)商刻蝕部門研發(fā)團隊,。自2008年起,他們投身于16nm刻蝕設(shè)備的研發(fā)工作,,并成功將其推向市場。隨后,,作為關(guān)鍵成員,,再度參與了12寸14nm刻蝕設(shè)備的研發(fā)并實現(xiàn)量產(chǎn)。

在市場需求的推動下,,公司組建了一支由半導(dǎo)體設(shè)備制造領(lǐng)域擁有豐富經(jīng)驗的技術(shù)人物及設(shè)計精英構(gòu)成的骨干團隊,,利用在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的豐富經(jīng)驗和深厚底蘊,首先聚焦8英寸ICP,、CCP,、TSV設(shè)備,致力于在SiC,、IGBT,、介質(zhì)材料等關(guān)鍵領(lǐng)域內(nèi),形成全系列更可靠,、更貼合用戶需求的高性能產(chǎn)品,。



ICP干法刻蝕機,CCP干法刻蝕機,,400平臺刻蝕系統(tǒng),,600平臺刻蝕系統(tǒng),Manual Load系統(tǒng)

上海微蕓半導(dǎo)體科技有限公司生產(chǎn)的電感耦合等離子體干法刻蝕機(ICP)是一款針對工藝節(jié)點與生產(chǎn)線各種關(guān)鍵應(yīng)用的大規(guī)模量產(chǎn)型設(shè)備,,其性能亦可在各大高校及科研機構(gòu)展示其科研屬性,。

設(shè)備8英寸向下兼容,適用于各種刻蝕需求,,具備優(yōu)異的刻蝕均勻性和快速刻蝕速率,,確保了高效、精確的刻蝕工藝結(jié)果,。同時,,高選擇比和高各向異性使刻蝕過程更為精準(zhǔn),減少損傷,。專業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的操作軟件使該設(shè)備操作簡便,、安全,且工藝穩(wěn)定,、重復(fù)性,、均勻性佳,。此外,高斷面輪廓可控性保證了刻蝕表面的平整光滑,。該系統(tǒng)可以根據(jù)客戶要求選擇氣體種類進(jìn)行配置,。



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