美國HARRICK原位池，原位漫反射附件,，低溫反應(yīng)室,，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池,，低溫反應(yīng)池,，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應(yīng)室，紅外漫反射附件,，用于在-150°C至600°C對(duì)粉末進(jìn)行漫反射測量,，HARRICK 原位漫反射附件，HARRICK 光譜儀附件原位漫反射 HARRICK 低溫紅外附件,，適用于多相催化,、氣固相互作用,、光化學(xué)反應(yīng)。

漫反射光譜法是檢測粗糙材料表面變化的一種非常靈敏的方法,。它對(duì)具有高比表面積的粉末特別有效,。這使得漫反射對(duì)于多相催化、氣固相互作用,、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)制的研究非常寶貴,。Harrick低溫反應(yīng)室非常適合在仔細(xì)變化的溫度和壓力下進(jìn)行此類研究。這些低溫反應(yīng)室允許在廣泛的控制溫度和壓力下進(jìn)行漫反射測量,，并與用于FT-IR和UV-Vis漫反射光譜的漫反射配件一起使用,。 設(shè)計(jì)用于高真空（133μPa或10-6托）至133 kPa（1 ktorr）和-150°C至600°C（真空條件下）的研究。

提供三個(gè)入口/出口,，用于排空反應(yīng)池和引入氣體,。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。

HARRICK 低溫紅外附件包括
反應(yīng)室
低壓加熱筒,。
K型熱電偶,。
樣品包裝工具和溢出托盤。
帶有兩個(gè)KBr窗口和一個(gè)玻璃觀察窗口的圓頂（FTIR配置）
帶有兩個(gè)SiO2窗口和一個(gè)玻璃觀察窗口的圓頂（UV-Vis-NIR配置）

HARRICK 光譜儀附件原位漫反射 搭配附件：

（1）漫反射裝置 DRP-XXX

（2）溫控儀ATK-024-6