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HVC-DRM-5 Harrick 紅外漫反射高溫反應室

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皕赫科學儀器(上海)有限公司代理眾多歐美*儀器儀表設備,,為了更好地服務客戶和開拓市場,現(xiàn)誠招省級代理,。

?公司擁有自主進出口權(quán),,所有產(chǎn)品都是歐美原廠直接采購,保證原廠,,給客戶提供優(yōu)惠的價格與最短的交貨期,,提供完善的售前售后服務。

?主營產(chǎn)品包括物理,,化學,,生化等實驗室的各類分析儀器以及工業(yè)流程在線儀表設備,在中國的石化,,化工,,制藥,食品,,飲料,,農(nóng)業(yè)科技等諸多領(lǐng)域擁有大量用戶,具有良好的市場聲譽,。

?在國內(nèi)我們與多家設計院,、科研院所及集成商建立了良好的項目合作關(guān)系,產(chǎn)品廣泛應用于冶金,、汽車制造,、煙草制造、液壓,、制藥,、食品飲料、電力,、船舶制造,、印刷包裝、石油化工,、機床,、環(huán)保監(jiān)測,、鐵路機車、機械制造,、紡織等行業(yè),。


儀器儀表,電子設備,,機械設備,工業(yè)自動化設備,,五金產(chǎn)品,,電線電纜,金屬材料,,電子

應用領(lǐng)域 化工,電子,電氣

Harrick  HVC-DRM-5 原位池對于具有高比表面積的粉末特別有效,。這使得漫反射成為研究多相催化氣固相互作用,、光化學反應和氧化機制的一個有價值的工具,。這種高溫反應室非常適合在仔細控制的溫度和壓力下進行此類研究。Harrick HVC-DRM-5 原位池應用允許在受控壓力和大范圍溫度下進行漫反射(漂移)光譜測量,。它與Praying Mantis漫反射裝置 一起作為FTIR和UV-VIS漫反射光譜附件,。Harrick 紅外漫反射高溫反應室


Harrick 紅外漫反射高溫反應室

Harrick 紅外漫反射高溫反應室設計用于從高真空(133μPa或10-6托)到133 kPa(1千托)的KBr窗片操作,或1.5 MPa(11.3千托)的ZnSe窗片操作,。
達到高達910°C的溫度(真空條件下),。
易于適應高達3.44MPa(25.8ktorr)的操作,帶有可選的高壓圓頂
提供三個入口/出口,,用于排空反應室和引入氣體,。
由耐化學腐蝕的316不銹鋼制成。
可選的Silcotek/Restek惰性涂層具有更高的惰性和耐腐蝕性,。
可選冷卻筒,,可通過冷卻器或再循環(huán)器進行適度冷卻或加熱。
提供兩個,、三個或四個電極電化學適配器配置,。
可用于顯微光譜儀應用的替代窗口組件,包括Raman,。

HARRICK HVC-DRM-5 原位池包括:
反應室,。
低壓加熱筒。
K型熱電偶,。
樣品包裝工具和溢出托盤,。
帶有兩個KBr或ZnSe窗口和一個玻璃觀察窗口(FTIR配置)的穹頂。
具有兩個SiO2窗口和一個玻璃觀察窗口(UV-Vis-NIR配置)的穹頂,。

搭配附件:

(1)漫反射裝置 DRP-XXX

Harrick 紅外漫反射高溫反應室

(2)溫控儀ATK-024-4

Harrick 紅外漫反射高溫反應室






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