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DM200-SE 全封閉式桌面顯影機

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顯影

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備,、后道封裝裝備,、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護,、保養(yǎng),、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,,是創(chuàng)新型中小企業(yè),、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè),。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,,快速退火爐,光刻機,,納米壓印,、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1.產(chǎn)品概述
全封閉式桌面顯影機是一種高效,、精準的實驗室設備,,主要用于各種材料的顯影處理。其全封閉式設計能夠有效防止顯影液揮發(fā)和污染,,確保實驗環(huán)境的清潔和安全,。同時,桌面型設計使得設備占地面積小,,便于移動和放置,,適用于各種實驗室環(huán)境。
2.產(chǎn)品特點

全封閉式設計:避免顯影液揮發(fā)和霧氣擴散到外部,,保護環(huán)境,,減少對人體健康的危害。
耐腐蝕材質(zhì):外殼噴塑處理,,耐腐蝕,、易清洗;內(nèi)腔采用不銹鋼材質(zhì),,鏡面拋光處理,,光滑、耐腐蝕,、易清洗,。
內(nèi)置真空過濾器:防止液體吸入真空泵,保護設備免受損壞,。
可調(diào)真空壓力:真空壓力可調(diào),,壓力值實時顯示,滿足不同實驗需求,。
可調(diào)液體流量:液體流量可調(diào),,回吸可調(diào),確保顯影過程的精確控制,。
廣泛適用性:適用于多種尺寸的wafer,,從碎片到200mm(8”圓晶)均可處理,。
高精度控制:轉(zhuǎn)速分辨率高,旋涂速度和加速度可調(diào),,工藝時間設定精確,。
3.應用域

全封閉式桌面顯影機廣泛應用于高封裝、MEMS(微機電系統(tǒng)),、LED(發(fā)光二管)等市場域,。此外,它還可用于醫(yī)療衛(wèi)生,、化工、能源,、電子等多個行業(yè)的實驗室中,,進行各種材料的顯影處理。
4.產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)品型號:DM200-SE
品牌:LEBO/雷博
產(chǎn)地:中國(江蘇江陰)
材質(zhì):外殼噴塑,,內(nèi)腔不銹鋼
尺寸:550mm (W) x 600mm (D) x 405mm (H)
支持wafer尺寸:碎片至200mm(8”圓晶)
轉(zhuǎn)速分辨率:±1 RPM
旋涂速度:20-3000rpm(空載)
旋涂加速度:20-10,000rpm/sec(空載)
工藝時間設定:0-3,000sec/step,,時間設置精度:0.1sec




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