脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/10/10 9:37:19
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價(jià)格區(qū)間 | 50萬-100萬 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合 |
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脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路主要包括以下幾個(gè)部分:
1. 激光器:這是光路的核心部分,,通常使用脈沖激光器,,激光器的波長(zhǎng)大多在200-400nm范圍內(nèi),這是因?yàn)榇蠖鄶?shù)材料在此波長(zhǎng)范圍內(nèi)處于強(qiáng)吸收狀態(tài),。
2. 光闌掃描器,、聚光鏡和透光窗:這些設(shè)備用于調(diào)整和控制激光光束的路徑和特性。光束經(jīng)過激光器窗口,、反射鏡,、光圈和透鏡,最終轟擊靶材表面,。
3. 光路調(diào)整:由于紫外光強(qiáng)度很大,,對(duì)人眼具有嚴(yán)重的傷害作用,因此激光光路的調(diào)整通常借助小能量的He-Ne激光器來完成。首先將He-Ne激光器置于光路中KeF激光器光口前方,,并調(diào)整與KeF激光器的光路相重合,,再次調(diào)節(jié)真空腔窗口前的凸鏡,使光恰好射入靶材正,。
4. 聚焦鏡:通過調(diào)整聚焦鏡的距離,,可以改變光斑的尺寸,從而獲得合適的激光能量密度,。
在整個(gè)光路中,,需要嚴(yán)格控制各個(gè)部分的位置和參數(shù),以保證激光光束能夠以的狀態(tài)轟擊靶材表面,,從而制備出高質(zhì)量的薄膜,。當(dāng)然,以下是對(duì)脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路的進(jìn)一步詳細(xì)描述:
5. 靶材和基片:靶材是激光脈沖轟擊的對(duì)象,,它的材料決定了要沉積在基片上的薄膜的成分,。基片則是用來接收沉積的薄膜的基底,,可以是各種材料,,如玻璃、單晶硅,、藍(lán)寶石等,。靶材和基片通常都位于真空腔室內(nèi),以確保沉積過程不受外界環(huán)境的干擾,。
6. 真空系統(tǒng):真空系統(tǒng)主要由真空泵和真空計(jì)組成,,用于維持真空腔室內(nèi)的高真空環(huán)境。高真空環(huán)境可以防止沉積過程中由于氣體分子的存在而產(chǎn)生的污染,,從而提高薄膜的質(zhì)量,。
7. 控制系統(tǒng):控制系統(tǒng)負(fù)責(zé)控制激光器的脈沖頻率、能量,、光斑大小等參數(shù),,以及靶材和基片的旋轉(zhuǎn)、加熱等動(dòng)作,??刂葡到y(tǒng)通過精確控制這些參數(shù)和動(dòng)作,可以保證沉積過程的穩(wěn)定性和重復(fù)性,。
8. 冷卻系統(tǒng):由于激光脈沖會(huì)產(chǎn)生大量的熱量,,因此需要對(duì)靶材和基片進(jìn)行冷卻,以防止熱損傷,。冷卻系統(tǒng)通常由水冷或氣冷設(shè)備組成,,可以有效地將熱量從靶材和基片中導(dǎo)出,。
9. 沉積過程監(jiān)控和診斷:為了確保沉積過程的穩(wěn)定性和薄膜的質(zhì)量,還需要對(duì)沉積過程進(jìn)行監(jiān)控和診斷,。這可以通過各種在線監(jiān)測(cè)設(shè)備來實(shí)現(xiàn),如光譜儀,、表面粗糙度計(jì),、橢偏儀等。
總的來說,,脈沖 激光沉積系統(tǒng)激光光路是一個(gè)高度復(fù)雜和精密的系統(tǒng),,需要各個(gè)部分的緊密配合和精確控制,才能制備出高質(zhì)量的薄膜,。同時(shí),,隨著科技的發(fā)展,脈沖 激光沉積技術(shù)也在不斷地進(jìn)步和優(yōu)化,,為薄膜科學(xué)和工業(yè)應(yīng)用提供了強(qiáng)大的支持,。