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原子層沉積系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2024/10/10 9:26:51
  • 訪問(wèn)次數(shù) 247

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專(zhuān)門(mén)從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷(xiāo)售的新型高科技公司,,也專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷(xiāo)和代理,,為高校、企業(yè)科研工作者提供專(zhuān)業(yè)的材料分析解決方案,,北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷(xiāo)售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),、離子束刻蝕機(jī),、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,,以專(zhuān)業(yè)能力導(dǎo)向,,精細(xì)工藝流程,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫(xiě)新篇章,。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡,、偏光顯微鏡,、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡,、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口,、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng),、測(cè)量顯微鏡,、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)

公司經(jīng)銷(xiāo)代理品牌包括:蔡司顯微鏡,,奧林巴斯顯微鏡,,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,,國(guó)產(chǎn)各廠家顯微鏡,, 華粵行 ,,基恩士 , 日本電,,日立 ,,布魯克,三和聯(lián),, sentech(森泰克),,SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,,天美愛(ài)丁堡,,原子光譜,氣相色譜,,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷(xiāo)的產(chǎn)品種類(lèi)包括,熒光顯微鏡,,熒光顯微成像系統(tǒng),,激光捕獲顯微切割,全自動(dòng)切片掃描,,三維超景深顯微系統(tǒng),,動(dòng)物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,,形貌探測(cè)顯微鏡,,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,,病理切片掃描,,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,,國(guó)產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),,按需搭建顯微系統(tǒng),,熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)


公司成立伊始,,即本著“以人為本,,誠(chéng)信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,,快樂(lè)中結(jié)識(shí)新朋友,,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員,、營(yíng)銷(xiāo)人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,,竭誠(chéng)為廣大客戶(hù)提供包括技術(shù)咨詢(xún),、產(chǎn)品配套、安裝調(diào)試,、應(yīng)用指導(dǎo),、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù)。同時(shí)公司還依托中國(guó)地質(zhì)研究院,、清華大學(xué),、中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué)、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,,特聘多名教授,、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持。

公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨,,只要您有需求,,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù)。公司管理層,、營(yíng)銷(xiāo)隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專(zhuān)業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),,相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無(wú)法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專(zhuān)業(yè)的人員,,過(guò)硬的技術(shù),,優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,為您提供專(zhuān)業(yè),、及時(shí),、周到的技術(shù)服務(wù),北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴(lài)的伙伴!












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價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

原子層沉積系統(tǒng)ALD 用於薄膜沉積的原子層沉積是基於順序使用氣相化學(xué)過(guò)程的最重要技術(shù)之一,;它可以被視為一種特殊類(lèi)型的化學(xué)氣相沉積(CVD)。多數(shù)ALD反應(yīng)使用兩種或更多種化學(xué)物質(zhì)(稱(chēng)為前驅(qū)物,,也稱(chēng)為“反應(yīng)物"),。這些前驅(qū)物以一種連續(xù)的且自我限制的方式,一次與一種材料的表面反應(yīng),。通過(guò)多個(gè)ALD循環(huán),,薄膜被緩慢沉積,。 ALD為製造半導(dǎo)體元件的重要製程,並且是可用於合成納米材料主要工具的一部分,。

原子層沉積系統(tǒng)ALD具有許多優(yōu)點(diǎn),,例如出色的均勻性,在複雜形狀的基板表面上沉積的具有相同膜厚的膜保形性,,低溫處理,。因此,ALD被應(yīng)用於微電子,,納米技術(shù)和生物技術(shù)領(lǐng)域中,,這些領(lǐng)域經(jīng)常在有機(jī)和生物樣品之類(lèi)的軟基底。上工作,。


原子層沉積系統(tǒng)

一種先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù)設(shè)備,,廣泛應(yīng)用于化學(xué)、材料科學(xué)以及微電子,、光學(xué),、新能源等多個(gè)領(lǐng)域。以下是對(duì)原子層沉積系統(tǒng)的詳細(xì)介紹:一,、基本原理原子層沉積技術(shù)(Atomic Layer Deposition,ALD)是一種基于表面自限制反應(yīng)的薄膜沉積技術(shù),。其原理是通過(guò)將氣相前驅(qū)體交替地通入反應(yīng)室,,在基底表面發(fā)生氣-固化學(xué)反應(yīng),逐層形成原子級(jí)別的薄膜,。每個(gè)沉積循環(huán)包括前驅(qū)體A的吸附與反應(yīng)(半反應(yīng)A),、惰性氣體吹掃、前驅(qū)體B的吸附與反應(yīng)(半反應(yīng)B)以及再次惰性氣體吹掃四個(gè)步驟,。這種自限制的反應(yīng)機(jī)制確保了薄膜的精確厚度控制和優(yōu)異的均勻性,。二、系統(tǒng)組成典型的原子層沉積系統(tǒng)由以下幾個(gè)主要部分組成:主要反應(yīng)區(qū)域,,需具備均勻的溫度和壓力環(huán)境,。反應(yīng)室設(shè)計(jì)對(duì)ALD過(guò)程至關(guān)重要,包括冷壁反應(yīng)室和熱壁反應(yīng)室兩種類(lèi)型,,以適應(yīng)不同的沉積需求,。2. 前驅(qū)體輸送系統(tǒng):包括前驅(qū)體源和輸送管道,確保前驅(qū)體的穩(wěn)定供應(yīng),。前驅(qū)體的選擇對(duì)ALD過(guò)程至關(guān)重要,,需要具有高揮發(fā)性、高反應(yīng)性,、化學(xué)穩(wěn)定性以及無(wú)腐蝕性和毒性等特點(diǎn),。3. 氣體控制系統(tǒng):控制前驅(qū)體和惰性氣體的引入和沖洗過(guò)程,,確保反應(yīng)室內(nèi)的氣體環(huán)境符合沉求。4. 真空系統(tǒng):維持低壓環(huán)境,,確保氣體流動(dòng)和反應(yīng)的可控性,。三、技術(shù)特點(diǎn)1. 精確控:通過(guò)控制沉積循環(huán)次數(shù),,可以實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)精度的薄膜厚度控制,,具有優(yōu)異的重復(fù)性。2. 大面積均勻性:能夠在大面積基底上形成均勻光滑的涂層,,甚至超過(guò)米尺寸,。3. 三維保型性:具有的3D共形性和100%階梯覆蓋,能夠在平坦,、內(nèi)部多孔和顆粒周?chē)鷺悠飞闲纬删鶆蛲繉印?. 廣泛適用性:適用于各種類(lèi)型的基底材料,,包括晶圓、3D零件,、薄膜卷,、多孔材料以及從納米到米尺寸的粉末。5. 溫和沉積工藝:通常不需要超高真空環(huán)境,,適用于敏感基材的沉積,。6. 易于擴(kuò)展:對(duì)溫度或前驅(qū)體劑量變化不敏感,易于批量擴(kuò)展,,可以一次性堆疊和涂覆許多基材,。四、應(yīng)用領(lǐng)域原子層沉積技術(shù)在多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用,,






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