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等離子沉積設(shè)備SI 500 D

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2024/10/10 9:08:31
  • 訪問(wèn)次數(shù) 151
產(chǎn)品標(biāo)簽

等離子沉積設(shè)備SI 500 D

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專(zhuān)門(mén)從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷(xiāo)售的新型高科技公司,,也專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷(xiāo)和代理,為高校,、企業(yè)科研工作者提供專(zhuān)業(yè)的材料分析解決方案,,北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷(xiāo)售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡,、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī),、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,,以專(zhuān)業(yè)能力導(dǎo)向,精細(xì)工藝流程,,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫(xiě)新篇章。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡,、金相顯微鏡,、偏光顯微鏡、體視顯微鏡,、數(shù)碼顯微鏡,、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源,、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng),、測(cè)量顯微鏡、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡,,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)

公司經(jīng)銷(xiāo)代理品牌包括:蔡司顯微鏡,,奧林巴斯顯微鏡,,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,,國(guó)產(chǎn)各廠家顯微鏡,, 華粵行 ,基恩士 ,, 日本電,,日立 ,布魯克,,三和聯(lián),, sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁),, PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,,天美愛(ài)丁堡,原子光譜,,氣相色譜,,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷(xiāo)的產(chǎn)品種類(lèi)包括,熒光顯微鏡,,熒光顯微成像系統(tǒng),,激光捕獲顯微切割,全自動(dòng)切片掃描,,三維超景深顯微系統(tǒng),,動(dòng)物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,,形貌探測(cè)顯微鏡,,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,,病理切片掃描,,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,,國(guó)產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),,按需搭建顯微系統(tǒng),,熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)


公司成立伊始,,即本著“以人為本,,誠(chéng)信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,,快樂(lè)中結(jié)識(shí)新朋友,,穩(wěn)步中追求新發(fā)展,。目前公司已經(jīng)擁有一支由專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員、營(yíng)銷(xiāo)人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,,竭誠(chéng)為廣大客戶提供包括技術(shù)咨詢,、產(chǎn)品配套、安裝調(diào)試,、應(yīng)用指導(dǎo),、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù)。同時(shí)公司還依托中國(guó)地質(zhì)研究院,、清華大學(xué),、中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué)、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,,特聘多名教授,、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持。

公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨,,只要您有需求,,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù)。公司管理層,、營(yíng)銷(xiāo)隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專(zhuān)業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),,相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無(wú)法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專(zhuān)業(yè)的人員,,過(guò)硬的技術(shù),優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,,為您提供專(zhuān)業(yè),、及時(shí)、周到的技術(shù)服務(wù),,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴(lài)的伙伴!












顯微鏡,,激光共聚焦,電鏡,,x射線,,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),,DNA/RNA合成儀,,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,,光刻機(jī),,

價(jià)格區(qū)間 100萬(wàn)-200萬(wàn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

高密度等離子體

等離子沉積設(shè)備SI 500 D具有優(yōu)異的等離子體特性,如高密度,,低離子能量和低壓等離子沉積介質(zhì)膜,。

平行板ICP等離子體源

SENTECH有的平行板三螺旋天線(PTSA)ICP等離子體源實(shí)現(xiàn)了低功率耦合,。

優(yōu)異的沉積性能

等離子沉積設(shè)備SI 500 D低刻蝕速率,高擊穿電壓,,低應(yīng)力,、不損傷襯底以及在低于100°C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度,使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能,。

動(dòng)態(tài)溫度控制

動(dòng)態(tài)溫度控制結(jié)合氦氣背冷的襯底電極,,以及襯底背面溫度傳感在從室溫到+350°C的廣泛溫度范圍內(nèi)提供了優(yōu)異穩(wěn)定工藝條件。


SI 500 D等離子沉積設(shè)備代表了等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的前沿技術(shù),,如介質(zhì)膜,、a-Si、SiC和其他材料,。它基于PTSA等離子體源,、獨(dú)立的反應(yīng)氣體進(jìn)氣口、動(dòng)態(tài)溫度控制襯底電極,、全自動(dòng)控制的真空系統(tǒng),、采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的SENTECH控制軟件,以及操作SI 500 D的用戶友好的通用用戶界面,。

SI 500 D等離子沉積設(shè)備可以加工各種各樣的襯底,,從直徑高達(dá)200 mm的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證了穩(wěn)定的工藝條件,,并實(shí)現(xiàn)在不同工藝之間的便捷切換,。

SI 500 D等離子增強(qiáng)沉積設(shè)備用于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx,、SiONx和a-Si薄膜,。通過(guò)液態(tài)或氣態(tài)前驅(qū)體,SI 500 D可以為T(mén)EOS, SiC,和其它材料的沉積提供解決方案,。SI 500 D特別適用于在低溫下在有機(jī)材料上沉積保護(hù)層和在既定的溫度下無(wú)損傷地沉積鈍化膜,。

SENTECH提供不同級(jí)別的自動(dòng)化程度,從真空片盒載片到一個(gè)工藝腔室或六個(gè)工藝模塊端口,,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),,目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 D也可用作多腔系統(tǒng)中的一個(gè)工藝模塊,。

等離子沉積設(shè)備SI 500 D等離子沉積設(shè)備SI 500 D等離子沉積設(shè)備SI 500 D等離子沉積設(shè)備SI 500 D等離子沉積設(shè)備SI 500 D等離子沉積設(shè)備SI 500 D等離子沉積設(shè)備SI 500 D等離子沉積設(shè)備SI 500 D
  • SI 500 D


  • ICPECVD等離子沉積設(shè)備

  • 帶預(yù)真空室

  • 適用于

    200mm的晶片

  • 襯底溫度從室溫到350?°C

  • 激光終點(diǎn)檢測(cè)

  • 備選電極偏置





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