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臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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 合肥康帕因設(shè)備技術(shù)有限公司是應(yīng)材料界老客戶(hù)呼吁而成立的專(zhuān)業(yè)致力于材料制備,、真空鍍膜,、真空檢測(cè)、等離子清洗,、鍍膜等設(shè)備的研發(fā),、生產(chǎn)型企業(yè)。公司擁有過(guò)硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì),,可在材料研究,、真空檢漏、真空鍍膜,、等離子清洗等領(lǐng)域?yàn)槟艖n(yōu)解難,。
CPI 技術(shù)力量來(lái)源于材料類(lèi)工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備要求,以及與國(guó)外同行業(yè)間的技術(shù)合作,產(chǎn)品設(shè)計(jì)*,,注重細(xì)節(jié),,質(zhì)量可靠,售后無(wú)憂(yōu),。CPI設(shè)備廣泛應(yīng)用于新能源材料,,金屬材料,磁性材料,,半導(dǎo)體材料,,陶瓷材料,電化學(xué),,薄膜材料,,CVD,PECVD ,石墨烯,碳納米管,,碳納米線(xiàn),,光學(xué)材料,齒科等研究領(lǐng)域,。
CPI將工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)要求應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)設(shè)備,,設(shè)備性能更加穩(wěn)定可靠,工藝重復(fù)性強(qiáng),。
CPI的理念是以客戶(hù)為根本(customer),,以人才為基礎(chǔ)(personnel),以創(chuàng)新求發(fā)展(innovation),。我們將秉承這一理念,為每一個(gè)客戶(hù)提供全套方案,!
CPI企業(yè)文化:厚德載物,,自強(qiáng)不息。以人為本,,敬職敬業(yè),。
CPI經(jīng)營(yíng)理念:誠(chéng)信務(wù)實(shí),創(chuàng)新致遠(yuǎn),。品質(zhì)*,,服務(wù)至上。




熱處理設(shè)備,,高溫爐,、CVD/PECVD、真空系統(tǒng),、晶體,、耗材等

產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
儀器種類(lèi) 管式爐 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,石油,能源,電子,綜合

一、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介

臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK設(shè)備設(shè)計(jì)為高通量實(shí)驗(yàn)使用,設(shè)備有8套獨(dú)立的溫控系統(tǒng)溝通,,8根獨(dú)立的石英管可同時(shí)參試8組不同實(shí)驗(yàn),,并配有獨(dú)立的真空裝置和進(jìn)氣裝置,大大提高實(shí)驗(yàn)效率,。同時(shí)8管爐為整體設(shè)計(jì),,減少占地空間,提高實(shí)驗(yàn)室空間利用,。

抽真空管堵為專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì),,8根石英管通過(guò)金屬波紋管連接到真空管道上,提高抽真空高效率,。每根石英管配有獨(dú)立抽真空閥門(mén),,同時(shí)配置真空管道上的主真空閥,可有效避免誤操作,。

進(jìn)氣端配有進(jìn)氣閥門(mén),,與法蘭進(jìn)氣端相連,可在實(shí)驗(yàn)完成后向管內(nèi)通氣加快降溫速率,。每一路可獨(dú)立進(jìn)氣,,也有總閥控制整體進(jìn)氣。

臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK

二,、技術(shù)參數(shù)


型號(hào)

LFT1200400D60-VIII-HVK

設(shè)備重量

加熱爐體重量380㎏

擴(kuò)散泵機(jī)組120kg

總重量500kg

外型尺寸(長(zhǎng)×深×高)

1400*1750*1300mm

額定功率

24KW

額定電壓

AC380V

最高溫度

1200

額定溫度

1100℃

升溫速率

≤10℃/min

控溫精度

±1℃

溫度均勻性

≤±2℃

控溫方式

模糊 PID 程序控溫

(自整定調(diào)節(jié) 30段可調(diào)程序控溫

熱電偶型號(hào)

K

加熱元件

電阻絲

加熱區(qū)

440mm

恒溫區(qū)

200mm

爐管尺寸

(可根據(jù)客戶(hù)要求訂制)

Φ60*1000mm  壁厚3mm

進(jìn)氣接頭

Φ6

真空度

5*10-3 Pa


臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK

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