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Excipolar Scatfere 原位電化學干涉散成像系統(tǒng)

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產(chǎn)品標簽

干涉散射拉曼電化學原位

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 常州譜光慧聯(lián)科技有限公司是一家專注于為材料科學,、生命科學以及半導體、光電子等相關領域的復雜應用提供光學與光譜分析解決方案的精密儀器公司,。公司主營業(yè)務為光學與光譜技術和檢測分析設備的研發(fā),、制造、生產(chǎn),、銷售,、以及相關服務業(yè)務。公司核心研發(fā)團隊在光譜學領域具有將近20年的產(chǎn)品開發(fā)與技術積累,,形成了高靈敏度共聚焦拉曼/熒光光譜,、角分辨光譜、瞬態(tài)吸收光譜,,掃描光電流譜及其他獨特且新穎的光學/光譜顯微成像技術和產(chǎn)品,。公司旨在依托我們在光學和光譜學領域多年的研究和技術積累,推動我國在高端光學與光譜儀器設備的產(chǎn)業(yè)化發(fā)展和國產(chǎn)化替代,,打破國外設備的長期壟斷,,成為光譜行業(yè)的領導者,為我國在高端分析儀器領域的發(fā)展貢獻綿薄之力,。

公司具有強大的產(chǎn)品研發(fā)和技術支撐,。核心研發(fā)團隊中40%的研發(fā)人員具有博士學位,50%具有高級職稱,。公司現(xiàn)有300 m2的研發(fā)場地和Demo中心,,并與國內知名研究機構共建了聯(lián)合研發(fā)與應用實驗室,以促進產(chǎn)學研轉化,。我們的宗旨是與客戶深入合作,,深刻理解客戶的應用需求,通過創(chuàng)新且專業(yè)的解決方案解決客戶痛點,,與客戶共同成長并獲得成功,。

 

2022年-獲得常熟市“昆承英才”科技創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)領軍人才計劃資助

http://www.changshu.gov.cn/zgcs/c107323/202212/c8fab74c39354ad2ae6365fb051396cd.shtml

2023年-申報了蘇州市“姑蘇人才”科技創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)領軍人才計劃,。

通過了科技型中小企業(yè)評定。

 

公司以創(chuàng)新作為核心競爭力,,高度重視知識產(chǎn)權的保護,;核心產(chǎn)品均具有完全自主知識產(chǎn)權,涵蓋了光譜,、光電聯(lián)合檢測等多方面綜合技術,。

常州譜光慧聯(lián)科技有限公司是一家專注于為材料科學、生命科學以及半導體,、光電子等相關領域的復雜應用提供光學與光譜分析解決方案的精密儀器公司,。公司主營業(yè)務為光學與光譜技術和檢測分析設備的研發(fā)、制造,、生產(chǎn),、銷售、以及相關服務業(yè)務,。

應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,電子/電池,航空航天,綜合

原位電化學干涉散射成像-共聚焦拉曼關聯(lián)系統(tǒng)
——

高分辨,、原位表征、離子遷移觀測解決方案


  干涉散射成像,,是基于顯微成像技術拓展而來的,,具有高分辨和高對比度的成像技術。其利用激光寬場照明,,獲得樣品對激光的散射信號,,再通過干涉方式對樣品表面進行成像。由于干涉信號對樣品表面的折射率變化異常敏感,,因此能夠以空間分辨率對電化學充放電過程中所引起的顆粒表面的細微變化進行成像,,并以高對比度反映充放電時離子化合物的形成、變化和遷移過程并分析其電化學機理,。

  該系統(tǒng)還結合了共聚焦顯微拉曼成像技術,,能夠在樣品同一位置原位實現(xiàn)干涉散射成像與共聚焦拉曼光譜的表征,從而綜合表征充放電過程中材料的結構,、成分等性質的變化,,以及離子遷移的過程。

  

主要特點

  • 干涉散射成像模式,,反映離子化合物的形成、遷移和分布,。

  • 可原位獲得樣品同一區(qū)域的干涉散射成像和拉曼光譜/mapping結果,。

  • 空間分辨率(300nm 720nm波長)。

  • 自動聚焦等自動化操作和數(shù)據(jù)采集功能,,確保光路的穩(wěn)定性,,以及易用性,。


原位電化學干涉散成像系統(tǒng)


應用領域

  • 電化學、電池材料

  • 二維材料等微納米材料


原位電化學干涉散成像系統(tǒng)


Specifications


光譜范圍
300-1050nm
拉曼光譜分辨率
<1cm-1 (532nm激發(fā))
拉曼截止波數(shù):
<100cm-1 (532nm激發(fā))
干涉散射成像空間分辨率
300nm
樣品臺
X=50mm * Y=50mm,,Z=20mm
步進精度優(yōu)于 0.05μm,,重復精度2μm
特色功能
自動聚焦、原位干涉散射-拉曼光譜關聯(lián)成像




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