日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE-750/OE-720

簡介
OE720和OE750是突破性的OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬*元素的全部光譜,，并具有同類產(chǎn)品中較低的檢出限,。 由于行業(yè)法規(guī)日益嚴格,，供應鏈變得復雜以及更多地使用廢料作為基礎材料,，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在下限ppm范圍內(nèi)。在過去,，這一級別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及,。日立分析儀器推出的OE系列可改變這一現(xiàn)狀。 日立直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素,，并識別金屬中含量較低的雜質(zhì),、痕量元素和關心元素，OE750還覆蓋了罕見的應用,，例如銅中的氧氣和鈦中的氧氣、氮氣和氫氣,。 OE系列的測量速度快、可靠性高且運營成本低,，可進行高性價比的日常分析和全面質(zhì)量控制，其性能可與更大,、更貴的光譜儀媲美,。 *根據(jù)應用,，有關更多詳細信息,，請索取我們的應用報告。

日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE-750/OE-720技術參數(shù)

• 類型

• 光學, 火花光發(fā)射

• 應用領域

• 用于實驗室, 用于氣體分析, 用于分析金屬, 用于冶金產(chǎn)業(yè), 用于鑄造車間, 用于金屬加工

• 配置

• 臺式

• 其他特性

• 高解析度, 高精度

• 波長

• 最多: 766 nm

  最少: 119 nm

• 長度

• 76 cm
  (29.92 in)

• 寬度

• 43 cm
  (16.93 in)

• 高度

• 54 cm, 125 cm
  (21.26 in, 49.21 in)
  
  

光學系統(tǒng)
• LightWing 技術: Paschen-Runge裝置的多CMOS光學系統(tǒng)和優(yōu)化的像素分辨率
• 焦距: 400 mm
• 波長: OE720: 174-670* nm / OE750: 119-670* nm (*按需求可至766 nm)
• 波長實時校準

電源
• E100 - 240V AC 50/60 Hz
• 最大功率: 430 W
• 待機功率 45 W (光源打開時功率 : 50 W)

產(chǎn)品優(yōu)勢
•覆蓋所有元素,，以低檢出限進行完整的金屬分析
•高光學分辨率,，可控制雜質(zhì)和痕量元素
•出色的長期穩(wěn)定性、精度和準確性
•OE750：分析氣體（鈦中的氫和氧,，銅中的氧）
•購買價格和運行成本合理,，性能可與更昂貴的分析儀相提并論
•包括全面的金屬數(shù)據(jù)庫,，可快速,，輕松地識別牌號
•可選的進料校正軟件可實現(xiàn)較佳過程控制
•與基于云的數(shù)據(jù)管理的連接

應用行業(yè)
• 過程的質(zhì)量控制和冶煉的驗證：分析模式/牌號鑒定
• 為所有相關的合金,、殘留物,、處理、痕量元素和雜質(zhì)元素提供較低檢出限
• 鐵：合金、鑄鐵,，氮含量低至10 ppm (僅OE750)
• 鋁：合金,、鑄造合金、鍛造合金……
• 銅：青銅,、黃銅,、白銅……
• 鎳：哈氏合金、Inconel合金,、蒙乃爾合金,，氮元素低至20 ppm
• 鈦：純鈦、鈦6-4,、鈦8-錳,，包括氫、氧,、氮等氣體元素 (僅OE750)
• 鎂,、鈷、鉛,、錫,、鋅合金、焊料及其他

新型OE750是一款突破性的新型OES金屬分析儀,。其涵蓋了金屬元素的全部光譜,，并具有同類產(chǎn)品中zui*低的檢出限。

由于行業(yè)法規(guī)日益嚴格,，供應鏈變得復雜以及更多地使用廢料作為基礎材料,，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在zui*低ppm范圍內(nèi)。在過去,，這一級別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及,。日立分析儀器推出的新型OE750可改變這一現(xiàn)狀。

這款直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素,，并識別金屬中含量極低的雜質(zhì),、痕量元素和處理元素，如鋼中的氮,。 OE750的測量速度快,、可靠性高且運營成本低，可進行高性價比的日常分析和全面質(zhì)量控制,，其性能可與更大,、更貴的光譜儀媲美。

為什么選擇OE750?

1. 值得信賴的結果在同類產(chǎn)品中控制雜質(zhì)和痕量元素的光學分辨率zui*高,。

2. L綜合成本低負擔得起的購買和運行成本,，提供更貴分析儀器所具備的性能,。

3. 保持運行不間斷設計可靠，維護和標準化要求極低,。

4. 支持連續(xù)生產(chǎn)分析速度快,，啟動時間短，可快速反饋熔液質(zhì)量,。

只需一臺價格合理的OE750設備,，就能提供快速全面的金屬質(zhì)量分析，滿足您所有的需求,。