廣州金程科學儀器公司供應的表面處理儀等離子去膠機,，等離子去膠機采用電感耦合各向同性(各個方向)等離子激發(fā)方式,，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。

等離子去膠機特別適合于大學,，科研院所和微電子,、半導體企業(yè)實驗室，對電路板,、外延片,、芯片,、環(huán)氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層,，干刻或濕刻處理前或后,，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離,、掩膜材料等光刻膠去除,，以及晶圓表面預處理等。

等離子去膠機其外觀美學設計,，結構緊湊,，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計,，使得處理樣品量更大,，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定,，操作更簡便,，性價比更高，使用成本更低,，實用性更強,，更容易維護。

等離子去膠機原理：

等離子去膠機原理同等離子清洗類似,，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應來去除光刻膠,，由于光 刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下,，工藝氣體氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學反應,，生成一氧化碳， 二氧化碳和水等,，再通過泵被真空抽走,，完成光刻膠的去除。在反應氣體中加入氮氣或者氫氣可以提高去膠性能,、加強對 殘留物的去除,。與傳統(tǒng)的化學去膠方法相比，等離子去膠機具有更高的清潔效率和更少的環(huán)境污染,。

等離子去膠機特點：

7寸彩色觸摸屏互動操作界面,，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20個配方程序,，工藝數(shù)據可存儲追溯,。

PLC工控機控制整個去膠過程，手動,、自動兩種工作模式,。

石英真空艙,，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質，耐腐蝕無污染,。

可選用石英舟,，更適合晶元硅片去膠應用。

采用花灑式多孔道進氣方式,，改變單孔進氣不均勻問題。

采用防腐數(shù)字流量計,，實現(xiàn)對氣體輸入精準控制,。標配雙路氣體輸送系統(tǒng)，可選多氣路氣體輸送系統(tǒng),，氣體分配均勻,。 可輸入氧氣、氬氣,、氮氣,、氫氣或混合氣等氣體。

HEPA 高效過濾,，氣體返填吹掃,，防止二次污染。

處理高效均勻,，效率高,，工藝重復性好。

樣品處理溫度低,，無熱損傷和熱氧化,。

安全保護，艙門打開,，自動關閉電源,，機器運行、停止提示,。

技術參數(shù)：

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