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TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者:
鴻瑞正達主要服務于高等院校,、科研院所和研發(fā)企業(yè),專注于科研領域,,助力科研成果轉化,。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料,、金屬材料,、電池研發(fā)、地質地礦材料,、脆性材料,、薄膜材料等研究領域的科研成套設備,。

我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷,。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備,,材料科學,質譜儀,,電化學,,電池,催化

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產品簡介:TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀,,利用光學干涉原理,,通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射譜,快速準確測量薄膜厚度,、光學常數(shù)等信息,。反射膜厚儀廣泛應用于各種介質保護膜、有機薄膜,、無機薄膜,、金屬膜、涂層等薄膜測量,。

產品型號

TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀

主要特點

1,、光學薄膜測量解決方案

2、非接觸,、非破壞測量

3,、覆蓋單層到多層薄膜

4、核心算法覆蓋薄膜到厚膜

5,、配置靈活,、支持定制化

6、采用高強度鹵素燈光源,,光譜覆蓋可見光到近紅外范圍

7、采用光機電高度整合一體化設計,,體積小,,操作簡便

8、基于薄膜層上界面與下界面的反射光相干涉原理,,輕松解析單層薄膜到多層

9,、配置強大核心分析算法FFT分析厚膜、曲線擬合分析法分析薄膜的物理參數(shù)信息

技術參數(shù)

型號

TFMS-IV

TFMS-IV(可選)

基本功能

獲取薄膜厚度值以R,、N/K(可選)等光譜

光譜波長范圍

380-800nm

650-1100nm(可選)

測量厚度范圍

50nm-20um

100nm-200um(可選)

測量時間

<1s

光斑尺寸

0.5-3mm

重復精度

0.1nm100nmSiO2/Si

精度

±1nm or 0.5%

入射角方式

垂直入射

可選配件

1

溫控臺

2

Mapping擴展模塊

3

真空泵



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