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GL Plasma等離子體清洗設(shè)備

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青島天仁微納科技有限責任公司成立于2015年,，是引新的納米壓印設(shè)備和解決方案提供商,。公司的核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產(chǎn)品與服務(wù)涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備,、模具,、材料,、工藝以及生產(chǎn)咨詢服務(wù)。我們致力于拓展納米壓印技術(shù)在創(chuàng)新產(chǎn)品領(lǐng)域的應(yīng)用,，例如發(fā)光二極管（LEDs）,、微納機電系統(tǒng)（MEMs/NEMs）、虛擬現(xiàn)實和增強現(xiàn)實光波導（AR Waveguides）,、3D傳感,、生物芯片、顯示以及太陽能等,。

微納加工設(shè)備,，配套材料，配套產(chǎn)品,，相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)咨詢服務(wù)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

GL Plasma等離子體清洗設(shè)備主要應(yīng)用于活化,，提升附著力和清洗等工藝。


GL Plasma等離子體清洗設(shè)備相關(guān)參數(shù)

●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）

●適用于清洗納米壓印基底表面

●適用于納米壓印基底表面增粘,、激活,、改性

●適用于增加工作模具基材與模具復制材料粘附性





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