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LTS-202 側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷
| 參考價(jià) | ￥ 159280 |
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱 無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
- 品牌 冠亞制冷
- 型號(hào) LTS-202
- 產(chǎn)地 江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)機(jī)光電工業(yè)園鴻運(yùn)路203號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/1/16 14:19:38
- 訪問(wèn)次數(shù) 553
半導(dǎo)體高低溫測(cè)試機(jī)高低溫氣流循環(huán)系統(tǒng)高精度控溫系統(tǒng)半導(dǎo)體測(cè)試chiller高低溫溫變測(cè)試
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制冷加熱循環(huán)器,、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應(yīng)釜溫控系統(tǒng),、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機(jī),、低溫制冷循環(huán)器,、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱,、低溫冷凍機(jī)、加熱制冷恒溫槽等設(shè)備
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-50萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 一體式 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車 |
無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案
主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備,、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，
?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體,、LED,、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域,。
【 冠亞制冷 】半導(dǎo)體行業(yè)主營(yíng)控溫產(chǎn)品：
半導(dǎo)體專溫控設(shè)備
射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)
半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風(fēng)控溫裝置
半導(dǎo)體?低溫測(cè)試設(shè)備
電?設(shè)備?溫低溫恒溫測(cè)試?yán)錈嵩?/span>
射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
| 型號(hào) | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內(nèi)循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液,、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進(jìn)出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴(kuò)展 | 通過(guò)增加電加熱器,，擴(kuò)展-25℃～80℃ | ||||||
側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷
側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷
半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備（Chiller）主要用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中準(zhǔn)確控制反應(yīng)室的溫度,。半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備利用制冷循環(huán)和工藝?yán)鋮s水的熱交換原理通過(guò)對(duì)半導(dǎo)體工藝設(shè)備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進(jìn)行控制,，以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體工藝制程的控溫需求,，是集成電路制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備。
半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備（Chiller）依據(jù)不同工藝制程要求控制給定溫度的循環(huán)液流經(jīng)半導(dǎo)體工藝設(shè)備反應(yīng)腔內(nèi),，將熱量帶入半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備,，半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備通過(guò)熱交換器將熱量傳遞給制冷劑，再通過(guò)制冷劑將熱量釋放給工藝?yán)鋮s水,，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)工藝制程的溫度控制,。
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