KAIJO楷捷 兆聲波晶圓清洗機 C-53VBLTS

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超聲波清洗主要原理:

1.空化作用

2.加速度

3.物理化學(xué)的反應(yīng)促進作用

超聲波清洗應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體晶圓、硅晶片,、復(fù)合晶片,、太陽能電池、 HDD (媒體,、基板和組件),、磁頭、平板顯示,、玻璃,、藍寶石、水晶印刷電路板,、膜,、陶瓷、 橡膠,、樹脂模塑制品,、汽車、電子,、醫(yī)療,、加工、精密零件,、沖壓零件,、模具、 金屬零件

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化學(xué)品：SHINETSU信越化學(xué)、THREEBOND三鍵,、TOAGOSEI 東亞合成,、三井化學(xué)MITSUI、KONISHI小西,、日本STT,、 NOK克魯勃/KLUBER 、SANSAI三彩化工 

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小眾產(chǎn)品：IRI軟水機、USUTANI臼谷電子 點焊機,、CNK磁性分離器,、HIMU 靜音消除器、NAC油水分離器,、BL DYNAMICS氣泡發(fā)生裝置,、工業(yè)CT無損檢測 國產(chǎn)（可提供技術(shù)支持與方案）、hibikicorp,、

新能源動力電池： 日本旭精工,、熊谷理機、